[发明专利]介孔氧化硅纳米复合材料及其制备方法和显示装置

权利要求书

1.一种介孔氧化硅纳米复合材料，包括：介孔氧化硅，负载于所述介孔氧化硅内核的量子点、及包覆于所述介孔氧化硅表面的纳米金属壳层；其中，所述介孔氧化硅的孔径为10～50nm，所述量子点之间的距离为20～100nm。

2.根据权利要求1所述的介孔氧化硅纳米复合材料，其特征在于，所述纳米金属壳层为纳米金壳层或纳米银壳层，所述纳米金属壳层的厚度为3-5nm，所述介孔氧化硅的表面与所述纳米金属壳层的距离为1～10nm。

3.根据权利要求1所述的介孔氧化硅纳米复合材料，其特征在于，所述量子点选自硫化铅量子点、硫化锌量子点、硫化镉量子点、硒化镉量子点、硒化铅量子点、碲化镉量子点、磷化铟量子点和砷化铟量子点中的一种或多种。

4.一种制备介孔氧化硅纳米复合材料的方法，其特征在于，包括如下步骤：

利用氧化硅前驱体和表面活性剂制备得到介孔氧化硅；

使所述介孔氧化硅通过有机配体与量子点连接，得到负载量子点的介孔氧化硅；以及

将所述负载量子点的介孔氧化硅加入到含有纳米金属的溶液中搅拌，得到介孔氧化硅纳米复合材料。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述负载量子点的介孔氧化硅通过如下步骤得到：

将所述介孔氧化硅与所述有机配体连接，得到修饰后的介孔氧化硅；

向所述修饰后的介孔氧化硅灌注所述量子点，使所述量子点与所述有机配体结合。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述负载量子点的介孔氧化硅通过如下步骤得到：

将所述量子点与所述有机配体结合，得到修饰后的量子点；

向所述介孔氧化硅灌注所述修饰后的量子点，使所述有机配体与所述介孔氧化硅连接。

7.根据权利要求4至6任一项所述的方法，其特征在于，所述氧化硅前驱体、量子点和氯金酸的质量比为(50～100):(1～5):(1～5)。

8.根据权利要求4至6任一项所述的方法，其特征在于，所述有机配体具有两个活性端基，其中一个活性端基为羟基或羧基，另一个活性端基为巯基、氨基、亚胺基或磷氧基。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述有机配体为油胺或羧基硫醇。

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括彩膜层，所述彩膜层包括根据权利要求1至3中任一项所述的介孔氧化硅纳米复合材料。