[发明专利]热耦合的石英圆顶热沉

权利要求书

1.一种处理腔室，所述处理腔室包括：

腔室主体，所述腔室主体具有下圆顶；

箱体，所述箱体设置成与所述下圆顶邻近，所述箱体包括一个或多个辐射能量源，所述一个或多个辐射能量源设置于所述箱体中的开口中，其中所述开口具有紊流诱发特征；和

温度控制单元，所述温度控制单元适于提供冷却流体至于所述下圆顶与所述箱体之间形成的间隙，其中所述开口引起所述冷却流体中的紊流以增强所述下圆顶的冷却。

2.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述箱体包括界定在所述辐射能量源之间的一个或多个冷却通道。

3.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述开口形成于所述箱体的上表面内。

4.如权利要求3所述的处理腔室，其中所述灯箱的所述上表面设置在于所述下圆顶与所述箱体之间形成的所述间隙与多个冷却通道之间，且所述多个冷却通道形成于所述箱体中。

5.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述箱体包含铜或铝。

6.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述温度控制单元包括热交换器。

7.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述温度控制单元包括强制流体送入单元。

8.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述下圆顶为光学透明的。

9.如权利要求8所述的处理腔室，其中所述下圆顶包含石英。

10.如权利要求3所述的处理腔室，其中所述箱体的所述上表面进一步包括述额外的紊流诱发特征，所述额外的紊流诱发特征为凸块或脊。

11.一种处理腔室，所述处理腔室包括：

腔室主体，所述腔室主体耦接至光学透明圆顶；

箱体，所述箱体设置成与所述光学透明圆顶邻近且间隔，其中间隙形成于所述光学透明圆顶与所述箱体的上表面之间；和

温度控制单元，所述温度控制单元适于提供冷却流体至所述间隙，其中在所述箱体面向所述光学透明圆顶的所述上表面上形成紊流诱发特征。

12.如权利要求11所述的处理腔室，其中所述紊流诱发特征包括形成于所述箱体的所述上表面内的开口。

13.如权利要求11所述的处理腔室，其中所述紊流诱发特征包括凸块或脊。

14.如权利要求13所述的处理腔室，其中所述紊流诱发特征与所述光学透明圆顶面向所述箱体的下表面接触。

15.如权利要求11所述的处理腔室，其中所述箱体包括多个冷却通道，其中所述上表面设置在所述冷却流体与所述间隙之间。

16.如权利要求11所述的处理腔室，其中所述箱体具有辐射能量源，所述辐射能量源设置在于所述箱体的所述上表面内形成的开口中，所述开口以反射衬垫做衬里，并且所述紊流诱发特征包括所述反射衬垫中的至少一些反射衬垫的延伸部分，所述延伸部分在所述箱体的所述上表面上方延伸。