[发明专利]一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备

权利要求书

1.一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备，该设备包括进料装置(2)、料槽(3)、起振装置(7)和反应装置(5)，其特征在于，

所述料槽(3)一端的上方设置有所述进料装置(2)，另外一端的上方设置有所述反应装置(5)，所述起振装置与该料槽相连，该起振装置依靠振动电机的连续转动或电磁铁的不断吸合为待处理微纳米颗粒提供一个斜向上的高频振动力，一方面使得从所述进料装置进入所述料槽中的待处理微纳米颗粒做向前的抛掷运动直至到达所述反应装置的下方，另一方面使得待处理微纳米颗粒不断被抛起，当该处理微纳米颗粒进入所述反应装置中后，增大其与反应气体的接触，使得反应气体更加均匀的吸附在其表面，提高成膜质量；

所述反应装置(5)包括有多个并行排列的反应喷头和设置在喷头侧面的加热片，在多个反应喷头中通入反应气体和惰性气体，其中，惰性气体介于两种反应气体之间使得两种反应气体隔离，同时也使反应过程与空气隔离，所述反应喷头包括进气管部分和出气口部分，所述进气管部分呈管状，所述出气口部分呈漏斗状，其口径小的一端与所述进气管部分相连，所述加热片用于加热所述反应喷头中的气体，待处理微纳米颗粒到达反应装置下方后与从反应喷头中喷入的气体发生反应，以此完成沉积过程。

2.如权利要求1所述的一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备，其特征在于，所述反应喷头出气口部分的底面与所述料槽之间设置有间隔，间隔的高度设置为0.5mm～1mm，一方面使得不同反应气体之间的隔离，另一方面使得反应物与待处理微纳米颗粒之间充分接触。

3.如权利要求1或2所述的一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备，其特征在于，所述料槽上方设置有滤网(6)，用于防止待处理微纳米颗粒在料槽中进行向前抛掷运动时跳出料槽。

4.如权利要求1所述的一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备，其特征在于，所述料槽的侧面设置有加热棒，用于加热料槽中的待处理微纳米颗粒。

5.如权利要求1所述的一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备，其特征在于，所述进料装置中设置有金属材质的漏斗，防止待处理微纳米颗粒在漏斗中产生静电。

6.如权利要求1所述的一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备，其特征在于，所述进料装置底面与所述料槽之间设置有间隔，防止堵料。