[发明专利]一种金属掩膜、金属掩膜版及其制造方法

权利要求书

1.一种金属掩膜，其特征在于，所述金属掩膜包括掩膜主体部和位于所述掩膜主体部的相对两侧的两个连接部，所述连接部包括位于所述掩膜主体部上的本体部和位于所述本体部上且背向所述掩膜主体部延伸的单级台阶部，所述单级台阶部包括平行于所述金属掩膜的台阶面。

2.根据权利要求1所述的金属掩膜，其特征在于，所述金属掩膜的两个所述连接部中的台阶面在该金属掩膜的厚度方向上相向设置。

3.根据权利要求1所述的金属掩膜，其特征在于，所述金属掩膜的两个所述连接部中的台阶面在该金属掩膜的厚度方向上同向设置。

4.根据权利要求1所述的金属掩膜，其特征在于，所述单级台阶部沿所述金属掩膜的厚度方向的高度为所述掩膜主体部的厚度的三分之一至三分之二。

5.根据权利要求1所述的金属掩膜，其特征在于，所述连接部的宽度为0.5mm～3mm。

6.一种金属掩膜版，其特征在于，包括框架和多个金属掩膜，所述框架的中部为中空区，所述金属掩膜沿第一方向跨设于所述框架的中空区，且所述金属掩膜沿所述第一方向的两侧分别与所述框架连接，所述多个金属掩膜沿第二方向依次排列，相邻的两个所述金属掩膜直接连接，使相邻的两个所述金属掩膜之间不存在空隙，其中，所述第一方向与所述第二方向相互交叉。

7.根据权利要求6所述的金属掩膜版，其特征在于，所述金属掩膜采用如权利要求1～5任一所述的金属掩膜，且相邻的所述金属掩膜的连接部中的台阶面部分重叠并连接。

8.根据权利要求7所述的金属掩膜版，其特征在于，所述多个金属掩膜中，其中部分所述金属掩膜的两个所述连接部中的台阶面在该金属掩膜的厚度方向上同向设置，其余部分所述金属掩膜的两个所述连接部中的台阶面在该金属掩膜的厚度方向上相向设置。

9.根据权利要求8所述的金属掩膜版，其特征在于，沿所述第二方向，所述多个金属掩膜中，位于所述中空区中部的一个所述金属掩膜的两个所述连接部中的台阶面在该金属掩膜的厚度方向上同向设置，其余所述金属掩膜的两个所述连接部中的台阶面在该金属掩膜的厚度方向上相向设置；

沿所述第二方向，由所述中空区的中部向两侧，相邻的两个所述金属掩膜中，靠近所述中空区侧边的所述金属掩膜的连接部中的台阶面，位于靠近所述中空区中部的所述金属掩膜的连接部中的台阶面的上方。

10.根据权利要求7所述的金属掩膜版，其特征在于，所述多个金属掩膜中，每个所述金属掩膜的两个所述连接部中的台阶面在所述金属掩膜的厚度方向上均相向设置。

11.根据权利要求7所述的金属掩膜版，其特征在于，所述多个金属掩膜中，每个所述金属掩膜的两个所述连接部中的台阶面在所述金属掩膜的厚度方向上均同向设置。

12.根据权利要求7所述的金属掩膜版，其特征在于，所述单级台阶部包括靠近所述本体部并连接所述本体部的后缘端以及远离所述本体部的前缘端，所述连接部中的前缘端，与相邻于该连接部的所述金属掩膜的连接部中的后缘端之间具有间距。

13.根据权利要求7所述的金属掩膜版，其特征在于，所述连接部中的台阶面，与相邻于该连接部的所述金属掩膜的连接部中的台阶面的重叠宽度为所述连接部的宽度的20％～80％。

14.根据权利要求6所述的金属掩膜版，其特征在于，沿所述第二方向，所述金属掩膜的侧面与相邻于该侧面的所述金属掩膜的侧面相对且贴合连接。