[发明专利]一种有机硅、多晶硅生产用高温干式除尘装置

说明书

一种有机硅、多晶硅生产用高温干式除尘装置，包括壳体，壳体上部为圆筒状，下部为锥形集灰斗，壳体内设置固定板将壳体分成上洁净区和下烟尘区，固定板上设置有若干根均布分布的管式滤芯，管式滤芯为一端开口另一端封闭的空心管体，开口端插设固接于固定板上且与上洁净区连通，封闭端位于下烟尘区内，锥形集灰斗底端设置有阀门，壳体顶端设置有出烟口，下烟尘区侧壁上设置有烟气进口。实现高温环境下除尘（250~300℃环境下干式除尘）；不会出现设备腐蚀及除尘设备使用寿命短的问题，解决目前为止有机硅行业没有解决的难题；由于干式除尘的运行可以解决减少高沸物的损失，提供高沸物有价值的利用数量，为有机硅企业增加效益。

技术领域

本发明涉及有机硅、多晶硅生产除尘设备领域，尤其涉及烟气温度在300℃左右的干式除尘装置。

背景技术

在有机硅、多晶硅生产过程中，从流化床反应器出来的合成气含有部分固体硅粉和催化剂需要分离，目前工业上普遍采用将气固相物料先经过旋风除尘器除去大部分的当量直径>10μm的颗粒物，然后直接进入洗涤塔，塔顶采用单体进行湿法除尘，气固相物料中未除去的颗粒物通过洗涤塔除去，从洗涤塔釜底与单体中的高沸物混合成渣浆排掉，而高沸物是可以裂解为目标产品有机氯硅烷单体的混合物，这种方法造成了大量的高沸物损失，并增加了废液的排放。

例如：中国专利CN105060298B公开了一种多晶硅生产中高沸物制备有机硅的处理方法和装置，包括依次相连的预处理单元、裂解反应器以及精馏塔B，适用于对来自于精馏工序的氯硅烷精馏塔釜液、来自于冷氢化工序和/或氯氢化工序含硅粉废液中的高沸物进行处理，较现有技术公开的仅对还原CVD的高沸物进行处理的装置系统而言，能更适应目前产量日益提高的多晶硅企业，更加全面、系统的执行多晶硅企业节能、降排的生产目标。该技术方案也是采用湿法除尘，然后对高沸物进行再次处理制备有机硅，其依旧会产生高沸物，依旧会有废液排放，目前市面上还不存在利用干式除尘法用于有机硅、多晶硅生产的设备。

发明内容

本发明针对现有技术的不足，提供了一种无需洗涤，有效防止高沸物产生，使用寿命长，有效防止堵塞的有机硅、多晶硅生产用高温干式除尘装置。

为实现本发明目的，提供了以下技术方案：一种有机硅、多晶硅生产用高温干式除尘装置，其特征在于包括壳体，壳体上部为圆筒状，下部为锥形集灰斗，壳体内设置固定板将壳体分成上洁净区和下烟尘区，固定板上设置有若干根均布分布的管式滤芯，管式滤芯为一端开口另一端封闭的空心管体，开口端插设固接于固定板上且与上洁净区连通，封闭端位于下烟尘区内，锥形集灰斗底端设置有阀门，壳体顶端设置有出烟口，下烟尘区侧壁上设置有烟气进口。

作为优选，壳体外包覆有35mm厚保温层。

作为优选，管式滤芯为耐高温耐酸碱材料。

作为优选，另设置有反吹系统，反吹系统包括反吹管道、设置于反吹管道上与管式滤芯开口端相对的喷嘴、与反吹管道连接的设置于壳体外的脉冲系统以及与脉冲系统连接分布器。

作为优选，耐高温耐酸碱材料包括由浆料通过采用已知的真空成形技术制造，浆料包括按质量百分比计60%~75%硅灰石、20%~45%矿物纤维以及5%~10%粘合剂。

作为优选，硅灰石颗粒为针状颗粒，针状颗粒的纵横比为20~40：1。

作为优选，粘合剂为淀粉或胶体二氧化硅或胶体氧化铝或胶乳。

作为优选，管式滤芯表硬度Zwick硬度计测量30-40；拉伸强度MPa 0.6 ~1.3；弯曲强度MPa 0.8 ~1.2 ； 30％变形时的压缩应力MPa 1.2~1.8。

本发明有益效果：本发明实现高温环境下除尘（250~300℃环境下干式除尘）；不会出现设备腐蚀及除尘设备使用寿命短的问题，解决目前为止有机硅行业没有解决的难题；由于干式除尘的运行可以解决减少高沸物的损失，提供高沸物有价值的利用数量，为有机硅企业增加效益。