[发明专利]一种改变激光光强分布膜片的制造方法

说明书

本发明公开了一种改变激光光强分布膜片的制造方法，其包括以下步骤：1）在光学基片上镀光学薄膜；2）利用飞秒激光逐点蒸发去除部分光学薄膜，使得光学薄膜形成激光透射或反射所需光强分布的光学表面结构。本发明采用飞秒激光在光学薄膜上逐点部分去除修饰成所需的光学表面结构，由于飞秒激光具有0.01um的修正能力，而且现在计算机可设计图案与打击次数，从而能根据所需要求精准和高效地改变光学薄膜的结构以改变光强分布。

技术领域

本发明涉及激光领域，尤其涉及一种改变激光光强分布膜片的制造方法。

背景技术

现有技术中，为了改变激光光强的分布一般采用机械设备直接在膜层上硬磨出来，上述方式不仅效率低，而且精准度差，然而在超薄的膜层上（厚度小于100μm）用机械设备是无法加工出来的。

发明内容

为了解决现有技术中的不足，本发明的目的在于提供一种高精准、高效率的改变激光光强分布膜片的制造方法。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种改变激光光强分布膜片的制造方法，其包括以下步骤：

1）在光学基片上镀光学薄膜；

2）利用飞秒激光逐点蒸发去除部分光学薄膜，使得光学薄膜形成激光透射或反射所需光强分布的光学表面结构。

所述制造方法还包括步骤3）将所述光学表面结构进行抛光。

所述光学薄膜的厚度小于或等于100μm。

所述光学基片的材质为Si、YAG或TGG。

所述制造方法应用于将高斯激光变为均匀激光，所述光学薄膜为金属膜，所述光学表面结构为连续环状的台阶结构，且各台阶为同轴线设置。

所述制造方法应用于激光的渐变反射衰减，所述光学薄膜为金属膜，所述光学表面结构为一端向另一端逐级升高的台阶结构，各台阶均为长方体状。

本发明采用以上技术方案，采用飞秒激光在光学薄膜上逐点部分去除修饰成所需的光学表面结构，由于飞秒激光具有0.01um的修正能力，而且现在计算机可设计图案与打击次数，从而能根据所需要求精准和高效地改变光学薄膜的结构以改变光强分布。

附图说明

以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：

图1为本发明实施例1中步骤1）中形成的结构示意图；

图2为本发明实施例1中步骤2）中形成的结构示意图；

图3为本发明实施例1中步骤3）中形成的结构示意图；

图4为本发明实施例1具体应用中的示意图；

图5为本发明实施例2中形成台阶结构的示意图；

图6为本发明实施例2具体应用中的示意图。

具体实施方式

实施例1，如图1-3之一所示，本发明应用于激光的渐变反射衰减，具体制造方法包括以下步骤：

1）在光学基片1上镀光学薄膜2，其中光学薄膜2为金属膜；

2）利用飞秒激光逐点蒸发去除部分光学薄膜2，使得光学薄膜2形成激光透射或反射所需光强分布的光学表面结构3，该光学表面结构3为一端向另一端逐级升高的台阶结构，各台阶均为长方体状；

步骤3）将所述光学表面结构3进行抛光。

所述光学基片1的材质为Si、YAG或TGG。