[发明专利]一种跨尺度微纳制造方法在审
| 申请号： | 201810288939.0 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108549198A | 公开（公告）日： | 2018-09-18 |
| 发明（设计）人： | 彭博方;冯玉林;方绚莱;贺晓宁 | 申请（专利权）人： | 深圳摩方新材科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/22;B29C64/129;B33Y10/00 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人： | 胡玉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华新区观澜*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 跨尺度 制造 空间光调制器 光刻 打印 图案 曝光 目标图案 图案投影 大尺度 微纳米 样品面 移动 投影 矛盾 | ||
1.一种跨尺度微纳制造方法，其特征在于，将空间光调制器的图案投影在样品面上，并移动所述样品面，使投影后的图案在样品面的不同位置上曝光，进而获得所需的目标图案。
2.根据权利要求1所述的跨尺度微纳制造方法，其特征在于，所述空间光调制器的图案为单像素或者由任意像素点组合而成。
3.根据权利要求2所述的跨尺度微纳制造方法，其特征在于，还包括使所述样品面移动的多条运动轴。
4.根据权利要求3所述的跨尺度微纳制造方法，其特征在于，所述运动轴包括沿着所述样品面所在平面的X轴、Y轴方向移动的X运动轴、Y运动轴。
5.根据权利要求4所述的跨尺度微纳制造方法，其特征在于，所述运动轴还包括垂直于所述样品面所在平面移动的Z运动轴。
6.根据权利要求3-5任一项所述的跨尺度微纳制造方法，其特征在于，通过控制各运动轴的运动速度，获得不同形状的目标图案。
7.根据权利要求6所述的跨尺度微纳制造方法，其特征在于，通过控制各运动轴的运动速度、光源的曝光剂量或者空间光调制器的像素数，进而控制目标图案的实际曝光剂量。
8.根据权利要求1所述的跨尺度微纳制造方法，其特征在于，所述光源和空间光调制器之间设有照明系统，所述空间光调制器和样品面之间设有投影物镜。
9.根据权利要求1所述的跨尺度微纳制造方法，其特征在于，所述空间光调制器包括DMD、LCD和LCOS。
10.根据权利要求1所述的跨尺度微纳制造方法，其特征在于，所述样品面包括感光树脂材料和光刻胶。
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