[发明专利]一种抗静电防护面料在审
申请号: | 201810289632.2 | 申请日: | 2018-04-03 |
公开(公告)号: | CN108330595A | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 钱俊;汤晓兰;曹丽霞;丁健梅;王义斌 | 申请(专利权)人: | 常熟市宝沣特种纤维有限公司 |
主分类号: | D03D15/00 | 分类号: | D03D15/00;D03D13/00;D03D15/12 |
代理公司: | 常熟市常新专利商标事务所(普通合伙) 32113 | 代理人: | 朱伟军 |
地址: | 215514 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纬组织 抗静电纱线 经向 防护面料 织物结构 抗静电 纬向 面料技术领域 斜纹组织结构 永久抗静电 放大生产 工业服装 纬向纱线 斜纹组织 纱线 时尚性 小提花 加工 | ||
一种抗静电防护面料,属于工业服装面料技术领域。由经组织和纬组织组成,特征在于所述经组织和所述纬组织以彼此相反的斜纹组织结合而形成提花的织物结构,并且经组织由经向纱线与经向抗静电纱线组成,而所述纬组织由纬向纱线与纬向抗静电纱线组成。由于经组织包括有经向抗静电纱线,又由于纬组织中包括有纬向抗静电纱线,因而能体现优异的本质型永久抗静电效果;由于经组织和纬组织以彼此相反的斜纹组织结构而得以形成小提花的织物结构,因而既加工容易又得以降低加工成本而藉以满足工业化放大生产要求并且还具有理想的简约时尚性和穿着舒适大方的效果。
技术领域
本发明属于工业服装面料技术领域,具体涉及一种抗静电防护面料。
背景技术
如业界所知,物质由分子构成,分子由原子构成,而原子由带正电荷的原子核与带负电荷的电子构成,由于电子受外力影响而脱离轨道,故产生静电。对于石化、煤矿、天然气、电子产品、光学仪器、制药、生物工程、精密仪器制造乃至金属制品(特别是金属制品抛光作业场所)和食品(如面粉加工企业)等行业的工人通常需要进行抗静电防护。此外,随着人们消费水平的提高和观念的改变,对工业服装面料的要求越来越高,具体表现为:一方面应对不同行业、不同的作业环境需要相应防护等级的抗静电面料,另一方面讲究穿着舒适并且在一定程度上需体现简约、时尚型而藉以与流行趋势相适应。
在公开的中国专利文献中可见诸抗静电面料的技术信息,如文献A).CN105970626A推荐的“一种永久抗静电面料”,其是由基材层和树脂层组成,基材层为无纺布,由无纺布进行功能性后整理,再浸渍树脂并经轧辊压轧和烘箱烘燥,或者由喷淋方式将树脂喷淋至无纺布表面再经烘箱烘燥。由于该专利采用化学整理或称化学处理工艺,是一种树脂附着型抗静电面料,因而在生产过程中会造成一定程度的污染,并且获得的面料无法达到Oeko-tex Standard100标准的要求;又如文献B).CN206426569U提供的“抗静电面料”是由银纤维层、竹纤维层、TPU薄膜树脂层、亚麻纤维层、银纤维层复合而成,实质上为复合叠层面料,其面料相对厚实,无法到达轻薄的外观效果,同时由于其制作工艺相对复杂,因而成本相对高。此外,该面料的耐水洗效果是脆弱的,例如当将其投入洗衣机清洗时存在分层之虞;再如文献C).CN203096313U介绍的“防静电织物”,在经纱和纬纱中按一定间隔放入金属倍捻纱线,该织物表面会形成一定的导电格型,例如设计好的正方形格型,会由于不同材料的不同缩率、织造下机不同的收缩、后整理预缩等工艺造成格型的变化,如变成长方形等不同格型,影响织物的美观性;同时金属倍捻纱和普通纱线的染色上染率也不同,在布面容易产生条花。
针对上述已有的技术,有必要加以改进,为此本申请人作了有益的探索和尝试,形成了下面将要介绍的技术方案。
发明内容
本发明的任务在于提供一种具有优异的本质型永久抗静电效果、易于加工并且有利于降低加工成本而得以满足工业化放大生产要求和具有良好的简约时尚性而藉以保障穿着舒适性的抗静电防护面料。
本发明的任务是这样来完成的,一种抗静电防护面料,由经组织和纬组织组成,特征在于所述经组织和所述纬组织以彼此相反的斜纹组织结合而形成提花的织物结构,并且经组织由经向纱线与经向抗静电纱线组成,而所述纬组织由纬向纱线与纬向抗静电纱线组成。
在本发明的一个具体的实施例中,所述的经向纱线和纬向纱线的交织组织为X上Y下A飞组织,其中:X大于Y,X与Y之和小于11,X为2至9的整数,Y为2至9的整数,A的飞数为1至5的整数,且A小于X与Y的和。
在本发明的另一个具体的实施例中,所述的经向抗静电纱线在所述经向纱线与所述纬向纱线相互交织时以嵌入方式嵌入于由经向纱线与纬向纱线交织而成的斜纹组织中,所述嵌入的嵌入方式为1上(X+Y-1);所述的纬向抗静电纱线在所述经向纱线与所述纬向纱线相互交织时以嵌入方式嵌入于由经向纱线与纬向纱线交织而成的斜纹组织中,所述嵌入的嵌入方式为(X+Y-1)上1下。
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