[发明专利]一种确定光学装置畸变量、畸变校正的方法及设备

权利要求书

1.一种确定光学装置畸变量的方法，其特征在于，包括：

基于一张定标图像生成多张具有不同校正量的预畸变图像；

将每张所述预畸变图像分别输入所述光学装置中进行显示，得到与多张预畸变图像一一对应的多张显示图像；

将每张所述显示图像与所述定标图像分别比较，得到与所述定标图像一致的显示图像，并将该显示图像对应的所述预畸变图像的校正量数值确定为所述光学装置的畸变量数值；

所述生成多张具有不同校正量的预畸变图像包括：

获取多个查找表，每个查找表中存储有预畸变图像中各像素点的坐标(x,y)以及与(x,y)对应的定标图像中的像素点的坐标(x₀,y₀)；

针对每个所述查找表，分别遍历预畸变图像中的每个像素点，将所述定标图像中(x₀,y₀)处的像素值确定为预畸变图像(x,y)处的像素值，得到多张具有不同校正量的预畸变图像以及每个预畸变图像的校正量，

其中，每个查找表对应一个畸变校正参数k₁，x为待生成的预畸变图像中各像素点的横坐标，y为待生成的预畸变图像中各像素点的纵坐标，x₀为定标图像中各像素点的横坐标，y₀为定标图像中各像素点的纵坐标。

2.根据权利要求1所述的确定光学装置畸变量的方法，其特征在于，

当所述光学装置使输入的图像产生桶形畸变时，待生成的预畸变图像中(x,y)与所述定标图像的(x₀,y₀)的对应关系为

r＝x²+y²

其中，x的取值范围为0～x_max，x_max为x的最大值，y的取值范围为0～y_max，y_max为y的最大值。

3.根据权利要求1所述的确定光学装置畸变量的方法，其特征在于，

当所述光学装置使输入的图像产生梯形畸变时，待生成的预畸变图像中(x,y)与所述定标图像的(x₀,y₀)的对应关系为

其中，y_0max的取值范围为0～y_0max，y_0max为y₀的最大值。

4.根据权利要求2或3所述的确定光学装置畸变量的方法，其特征在于，所述每个预畸变图像的校正量为预畸变图像中校正量最大的像素点的校正量。

5.根据权利要求2或3所述的确定光学装置畸变量的方法，其特征在于，

通过所述对应关系根据(x,y)计算得到对应的(x₀,y₀)；

所述方法进一步包括：

当(x₀,y₀)为浮点数时，对其进行双线性插值补偿。

6.根据权利要求1所述的确定光学装置畸变量的方法，其特征在于，包括：

当一张显示图像相对于定标图像的畸变量为所有显示图像相对于定标图像的畸变量中最小的，视为所述一张显示图像与所述定标图像一致。

7.一种光学装置畸变校正的方法，其特征在于，包括：

根据权利要求1-6中任一项所述的方法确定所述光学装置的畸变量；

若所述光学装置的畸变量小于畸变预设阈值，则将待输入光学装置的图像直接输入光学装置；

若所述光学装置的畸变量大于等于所述畸变预设阈值，则对待输入光学装置的图像进行预畸变，生成一个预畸变图像后输入光学装置，其中所述预畸变图像的校正量与所述光学装置的畸变量的数值相等。