[发明专利]可调节的物理不可克隆函数有效
申请号: | 201810297044.3 | 申请日: | 2018-04-04 |
公开(公告)号: | CN108696350B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | O.维勒斯 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | H04L9/08 | 分类号: | H04L9/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 胡莉莉;申屠伟进 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调节 物理 不可 克隆 函数 | ||
1.一种由作为物理不可克隆函数的微机电系统(11a、12a)以及可控制的调节环节(11b、12b)构成的装置(11、12),作为对挑战的反应,所述微机电系统按照映射规则来输出应答,所述调节环节被设立为:按照控制指令来调节影响所述映射规则的周围环境参数,以改变所述映射规则,以便生成对于同一挑战的不同的应答,使得不同的密码密钥被生成,或者以便破坏所述微机电系统。
2.根据权利要求1所述的装置,所述装置布置在外壳(11d、12d)中。
3.根据权利要求2所述的装置,其中所述外壳(11d、12d)由陶瓷材料形成。
4.根据权利要求1至3之一所述的装置,所述装置具有测量环节(11c、12c),用于测量影响所述映射规则的周围环境参数。
5.根据权利要求1至3之一所述的装置,其中影响所述映射规则的周围环境参数是周围环境温度和/或周围环境压强。
6.根据权利要求1至3之一所述的装置,其中所述调节环节(11b、12b)具有加热和/或冷却元件。
7.一种组件(10),其具有多个根据上述权利要求之一所述的装置(11、12)。
8.一种由控制单元(2)和至少一个根据权利要求1至6之一所述的装置(11、12)构成的系统(1),所述控制单元被设立为生成针对调节环节(11b、12b)的控制指令。
9.根据权利要求8所述的系统(1),其中所述控制单元(2)被设立为调节周围环境参数。
10.根据权利要求8或9所述的系统(1),其中所述控制单元(2)被设立为:给所述装置(11、12)加载挑战并且检测所述装置(11、12)的应答。
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