[发明专利]具有磁化冷却水装置的磁控溅射系统及磁控溅射设备

权利要求书

1.一种具有磁化冷却水装置的磁控溅射系统，其特征在于，包括：

磁控溅射装置，用于安装在镀膜腔室的内部；

冷却水装置，包括冷却水源及冷却水管路，所述冷却水管路的一端与所述冷却水源相连接，所述冷却水管路的另一端与所述磁控溅射装置相连接，用于向所述磁控溅射装置提供冷却水以对所述磁控溅射装置进行冷却；及，

磁化装置，位于所述冷却水管路上，用于对流经所述冷却水管路的冷却水进行磁化处理，以使所述冷却水的酸碱度呈中性，并降低所述冷却水的结合能力及表面张力。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射系统，其特征在于：所述磁化装置包括正SS极磁化装置。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射系统，其特征在于：所述磁化装置位于所述冷却水管路的外壁且环绕包覆所述冷却水管路。

4.根据权利要求1所述的磁控溅射系统，其特征在于：所述冷却水装置还包括水压控制器，位于所述磁控溅射装置和所述磁化装置之间的所述冷却水管路上。

5.根据权利要求1至4任一所述的磁控溅射系统，其特征在于：所述磁控溅射装置包括：

水冷坩埚，所述水冷坩埚上设有进水口与出水口，所述进水口与所述冷却水管路相连接，以向所述水冷坩埚内供应冷却水；

磁铁组件，位于所述水冷坩埚内，用于产生磁控溅射所需的磁场；及，

靶材，位于所述水冷坩埚的表面。

6.根据权利要求5所述的磁控溅射系统，其特征在于：所述磁控溅射装置还包括马达，所述马达与所述磁铁组件电连接，用于驱动所述磁铁组件旋转以产生旋转磁场。

7.一种磁控溅射设备，包括：

镀膜腔室；

磁控溅射装置，位于所述镀膜腔室内；

冷却水装置，包括冷却水源及冷却水管路，所述冷却水管路的一端与所述冷却水源相连接，所述冷却水管路的另一端与所述磁控溅射装置相连接，用于向所述磁控溅射装置提供冷却水以对所述磁控溅射装置进行冷却；

磁化装置，位于所述冷却水管路上，用于对流经所述冷却水管路的冷却水进行磁化处理，以使所述冷却水的酸碱度呈中性，并降低所述冷却水的结合能力及表面张力；及，

基片承载装置，位于所述镀膜腔室内，用于承载待镀膜基片。

8.根据权利要求7所述的磁控溅射设备，其特征在于：所述磁化装置包括正SS极磁化装置。

9.根据权利要求7所述的磁控溅射设备，其特征在于：所述磁化装置位于所述冷却水管路在所述镀膜腔室外的区段外壁且环绕包覆所述冷却水管路。

10.根据权利要求7所述的磁控溅射设备，其特征在于：所述冷却水装置还包括水压控制器，位于所述磁控溅射装置和所述磁化装置之间的所述冷却水管路上。

11.根据权利要求7至10任一所述的磁控溅射设备，其特征在于：所述磁控溅射装置包括：

水冷坩埚，所述水冷坩埚上设有进水口与出水口，所述进水口与所述冷却水管路相连接，以向所述水冷坩埚内供应冷却水；

磁铁组件，位于所述水冷坩埚内，用于产生磁控溅射所需的磁场；及，

靶材，位于所述水冷坩埚的表面。

12.根据权利要求11所述的磁控溅射设备，其特征在于：所述磁控溅射装置还包括马达，所述马达与所述磁铁组件电连接，用于驱动所述磁铁组件旋转以产生旋转磁场。