[发明专利]一种埃米防蓝光镜片及其制备方法

权利要求书

1.一种埃米防蓝光镜片，其特征在于：包括基底、打底层、复合薄膜层和保护层，所述打底层为二氧化硅或硅铝混合物，厚度为800±100埃米，所述复合薄膜层包括4层、6层或者8层高折射率层和低折射率层交替堆叠而成薄膜，所述高折射率层为Ta₂O₅、Ti₃O₅或Nb₂O₅中的任意一种，厚度为500±100埃米，所述低折射率层为二氧化硅或硅铝混合物，与所述保护层相邻的所述低折射率层的厚度为1000-1600埃米，与所述保护层不相邻的所述低折射率层的厚度为800±100埃米。

2.根据权利要求1所述的埃米防蓝光镜片，其特征在于：所述基底为玻璃、亚克力基片、聚碳酸酯基片、尼龙基片、CR-39基片的任意一种。

3.根据权利要求1所述的埃米防蓝光镜片，其特征在于：所述硅铝混合物为真空镀膜材料L5。

4.根据权利要求1所述的埃米防蓝光镜片，其特征在于：所述复合薄膜层成膜时使用离子源设备辅助成膜。

5.根据权利要求1所述的埃米防蓝光镜片，其特征在于：所述低折射率层的折射率为1.4-1.5。

6.根据权利要求1所述的埃米防蓝光镜片，其特征在于：所述保护层为防水薄膜，厚度为50-200埃米。

7.一种制备权利要求1-6中任一项所述的埃米防蓝光镜片的方法，其特征在于：包括以下步骤：

(1)基底清洁后烘烤，放入冶具，送入真空室；

(2)利用真空镀膜技术在步骤(1)得到的基底上镀打底层，打底层材料为二氧化硅或硅铝混合物，膜层监控厚度800±100埃米；

(3)利用真空镀膜技术，在离子源设备辅助成膜条件下，在步骤(1)得到的打底层上依次交替堆叠高折射率层和低折射率层，所述的高折射率层材料为Ta₂O₅、Ti₃O₅或Nb₂O₅中的任意一种，膜层监控厚度500±100埃米，所述的低折射率层材料为二氧化硅或硅铝混合物，最后一层所述低折射率层的膜层监控厚度1000-1600埃米，其余所述低折射率层的膜层监控厚度800±100埃米；

(4)在步骤(3)所得的最后一层所述低折射率层上镀上保护层。

8.根据权利要求7所述的制备埃米防蓝光镜片的方法，其特征在于：所述步骤(1)中烘烤为在40-80℃烘烤1-3h。

9.根据权利要求7所述的制备埃米防蓝光镜片的方法，其特征在于：所述步骤(1)中真空室的真空度≤3×10^-5Torr。

10.根据权利要求7所述的制备埃米防蓝光镜片的方法，其特征在于：所述步骤(3)中离子源设备辅助成膜，工作气体为氩气或者氧气，使用电压为120-180V，电流为4-9A。