[发明专利]一种CsPbX3有效

专利信息
申请号: 201810298816.5 申请日: 2018-04-04
公开(公告)号: CN108467208B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 刘超;叶英;张继红;韩建军;赵修建 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C03C14/00 分类号: C03C14/00;C03B25/00
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 邬丽明
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 cspbx base sub
【说明书】:

发明提供一种CsPbX3纳米晶掺杂硼锗酸盐玻璃及其制备方法与应用。该CsPbX3纳米晶掺杂硼锗酸盐玻璃的组成以摩尔百分含量计为:Ge:13.5~18.5%,B:6.5~15.5%,Zn:0~5.3%,M:0~2.5%,Pb:0.3~2.3%,Cs:1.3~4.6%,N:2~7.9%,X:1.6~6.5%,O:53‑59%,M为Ca、Sr或Ba中的任意一种或两种以上的混合;N为Li、Na或K中的任意一种或两种以上的混合;X为Cl、Br或I中任意一种或两种以上的混合。本发明工艺简单、易操作、纳米晶尺寸可控、可以获得可见光波段的一定范围内的发光,同时玻璃基质为纳米晶提供了稳定的基底环境,使得纳米晶的热稳定性和化学稳定性都得到了明显提高,具有广阔的应用前景。

技术领域

本发明属于发光材料领域,具体涉及一种CsPbX3纳米晶掺杂硼锗酸盐玻璃及其制备方法与应用。

背景技术

半导体纳米晶是一种准零维的半导体纳米晶颗粒。当半导体材料的晶粒尺寸逐渐减小时,大块材料的连续能带结构变成具有分子特性的分立能级结构;而半导体纳米晶内的载流子的运动状态将受到限制,受激后能产生荧光。随着纳米晶尺寸的逐渐减小,其禁带宽度逐渐增大,在光谱上表现为不同波段的吸收和荧光。

CsPbX3(X=Cl、Br、I)类钙钛矿型材料属于直接带隙半导体材料,其带隙能分别为CsPbCl3:2.97eV,CsPbBr3:2.30eV,CsPbI3:1.73eV。CsPbCl3纳米晶的可调控的荧光主要为紫光,CsPbBr3纳米晶的可调控的荧光主要为绿光,CsPbI3纳米晶的可调控的荧光主要为红光。再通过对复合型卤素的CsPbX3(X=Cl/Br、Br/I)纳米晶的调控就可实现整个可见光范围内的发光。CsPbX3(X=Cl,Br,I,Cl/Br或Br/I)纳米晶具有优异的光学性能、较窄的荧光峰半高宽和较短的荧光寿命。因此钙钛矿型CsPbX3(X=Cl,Br,I,Cl/Br或Br/I)纳米晶在光学材料领域具有很好的应用前景。

目前,CsPbX3纳米晶的制备方法有很多,主要为在溶液中合成的化学法,还有熔融- 热处理法。虽然在溶液中合成的CsPbX3纳米晶发光效率高,合成工艺简单,但是该方法合成的CsPbX3纳米晶容易团簇沉淀,在极性溶液中容易分解,而且化学稳定性和热稳定性都非常差,容易与空气中的水和氧气发生反应,在高于室温的环境下CsPbX3纳米晶由于进一步的长大而导致荧光效率快速降低。因此在溶液中合成的CsPbX3纳米晶对存储条件要求高,也不利于后续的加工和器件的制备,这将大大地限制了CsPbX3纳米晶的应用。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明提供一种能够提高CsPbX3纳米晶化学稳定性、纳米晶尺寸可调、光致发光覆盖可见光波段的CsPbX3纳米晶掺杂硼锗酸盐玻璃及其制备方法与应用。

本发明的技术方案如下:

一种CsPbX3纳米晶掺杂硼锗酸盐玻璃,所述CsPbX3纳米晶掺杂硼锗酸盐玻璃的组成以摩尔百分含量计为:Ge:13.5~18.5%,B:6.5~15.5%,Zn:0~5.3%,M:0~2.5%,Pb:0.3~2.3%,Cs:1.3~4.6%,N:2~7.9%,X:1.6~6.5%,O:53-59%,M为Ca、Sr或Ba中的任意一种或两种以上的混合;N为Li、Na或K中的任意一种或两种以上的混合;X为 Cl、Br或I中任意一种或两种的混合。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉理工大学,未经武汉理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810298816.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top