[发明专利]一种负离子釉制备方法

权利要求书

1.一种负离子釉制备方法，其特征在于包括以下步骤：

负离子辅强干料制备的步骤，将聚偏二氯乙烯纤维投入γ-聚谷氨酸溶液浸泡，进行高温干燥以及吸湿器中干燥，得到负离子辅强干料；

釉干料制备的步骤，将制备釉料的原材料按照一定比例加入到球磨罐混合并球磨，制得釉干料；

负离子釉浆料制备的步骤，将负离子辅强干料以及一定量的水加入到球磨罐混合并球磨，制得负离子釉浆料。

2.如权利要求1所述的一种负离子釉制备方法，其特征在于：所述负离子釉的原料为，负离子辅强干料；工业碳酸钡；钾长石；硅酸锆；氧化铝粉；白滑石；高岭土。

3.如权利要求2所述的一种负离子釉制备方法，其特征在于：所述负离子釉的原料为，负离子辅强干料：5-15份；工业碳酸钡：15-30份；钾长石：30-50份；硅酸锆：20-40份；氧化铝粉：3-10份；白滑石：5-15份；高岭土：5-15份。

4.如权利要求3所述的一种负离子釉制备方法，其特征在于：负离子釉浆料制备的步骤之前，还包括负离子辅强湿料制备的步骤。

5.如权利要求4所述的一种负离子釉制备方法，其特征在于：所述负离子辅强湿料制备的步骤为，将5-15份负离子辅强干料投入一定量的水中浸泡24h，制得负离子辅强湿料；

以使聚偏二氯乙烯纤维充分的散开，可以聚偏二氯乙烯纤维不会聚积在一起，还可以保证负离子散发效果。

6.如权利要求5所述的一种负离子釉制备方法，其特征在于：所述负离子辅强干料制备，将聚偏二氯乙烯纤维切断为0.5-2mm、投入平均质量分子量60万~300万的γ-聚谷氨酸0.4±0.1wt%溶液、40±5℃浸泡1-2h后，40±5℃干燥2-3h，吸湿器中干燥12h以上。