[发明专利]一种刻有金属纳米光栅的电化学工作电极及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810311030.2 申请日: 2018-04-09
公开(公告)号: CN108761599A 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 刘韡韬;刘志华;李莹;徐倩 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G02B5/00;G01N21/31
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;陆尤
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光栅 电化学工作电极 金属纳米 红外光 电极 电解液 电化 制备 电化学技术领域 表面等离激元 分子振动光谱 红外振动光谱 场强 动量 电化学反应 化学键 补偿金属 红外光谱 化学分析 耦合 构型 近场 取向 入射 衰减 测量 传播 吸收 挑战
【权利要求书】:

1.一种刻有金属纳米光栅的电化学工作电极的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:

(1)利用Comsol软件构建模型,给定红外的入射角度,模型由上至下依次为空气层、衬底基片、金属薄膜、水,进行仿真模拟计算,得到对指定化学键拉伸振动所在的红外波段近场增强最优的金膜厚度、缝宽、以及光栅周期组合,分别在百纳米、及微米量级;

(2)清洁衬底基片;

(3)用电子束蒸发器在步骤(2)中洗净的衬底基片上沉积一层金属薄膜,厚度在百纳米量级;

(4)在步骤(3)中得到的金属薄膜上旋涂一层光刻胶;

(5)将预先设计好的光栅图案导入电子束光刻机中,启动程序,光刻机将光栅图案转移到光刻胶上;

(6)将步骤(5)中得到的样品浸没在显影液中,去除暴露的光刻胶;

(7)利用氩离子束轰击上述样品,将光栅图案转移到金属薄膜上,制成刻有金属纳米光栅的电化学工作电极;

(8)将步骤(7)中得到的样品放入有机溶液中进行超声清洗以去除剩余的光刻胶。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的衬底基片为硅片或三氧化二铝。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的金属薄膜材料为金、铂、银或铜。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的光栅由多种周期不同的光栅组合而成。

5.一种由权利要求1-4之一所述制备方法得到的刻有金属纳米光栅的电化学工作电极。

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