[发明专利]一种除铁装置

说明书

本申请公开了一种除铁装置，所述除铁装置包括壳体，壳体围设成容置腔，壳体上设置有与容置腔连通的进液口；吸附筒，设置于容置腔内；磁体，设置于吸附筒内，用于在容置腔内选择性形成磁化区，以使得当磁体在容置腔内形成磁化区时，经所述进液口进入所述容置腔内的液流中的含铁杂质能够吸附在吸附筒的外表面，当磁体在容置腔内不形成磁化区时，吸附在吸附筒外表面的含铁杂质能够从吸附筒上脱落。通过上述方式，本申请能够快速、高效的去除含铁杂质。

技术领域

本申请涉及除杂技术领域，特别是涉及一种除铁装置。

背景技术

在一些工业生产过程中，往往会涉及除杂工序，而杂质的种类又多种多样，也就对应不同的除杂方法。本申请的发明人在长期的研发过程中，发现含铁杂质是一类较常见的杂质，如铁屑、小铁片等，这些含铁杂质会对设备中的一些部件，如刀片、刀盘、叶片等造成磨损，若常时间沉淀累积还会堵塞管道，导致输送阻力增加。另一方面，如果这些含铁杂质未被及时清除，将带入产品造成产品不良，影响产品合格率。因此需要开发方便、高效的除铁方法或装置。

发明内容

本申请主要解决的技术问题是提供一种除铁装置，能够快速、高效的去除含铁杂质。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种除铁装置，所述除铁装置包括壳体，壳体围设成容置腔，壳体上设置有与容置腔连通的进液口；吸附筒，设置于容置腔内；磁体，设置于吸附筒内，用于在容置腔内选择性形成磁化区，以使得当磁体在容置腔内形成磁化区时，经所述进液口进入所述容置腔内的液流中的含铁杂质能够吸附在吸附筒的外表面，当磁体在容置腔内不形成磁化区时，吸附在吸附筒外表面的含铁杂质能够从吸附筒上脱落。

其中，磁体相对于吸附筒活动设置，并能够被移入或移出吸附筒，进而在容置腔内选择性形成磁化区，或者磁体固定安装在吸附筒内，并以受控方式选择性产生磁化区。

其中，除铁装置进一步包括第一传动装置，第一传动装置用于传动磁体移入或移出吸附筒。

其中，壳体上进一步设置有与容置腔连通的第一出液口和第二出液口，除铁装置进一步设置有与壳体连接的进液管、第一出液管和第二出液管，其中进液管设置有与进液口连通的进液通道，第一出液管和第二出液管设置有分别与第一出液口和第二出液口连通的第一出液通道和第二出液通道，其中第一出液管和第二出液管上分别设置有第一控制阀和第二控制阀，以使得当磁体在容置腔内形成磁化区时，去除含铁杂质后的液流经第一出液通道排出，当磁体在容置腔内不形成磁化区时，含有脱落后的含铁杂质的液流经第二出液通道排出。

其中，进液通道和第一出液通道水平设置且沿同一直线延伸，第二出液通道位于吸附筒的正下方且竖直设置，第一控制阀和第二控制阀彼此互锁。

其中，除铁装置还包括刮除组件，刮除组件包括刮板，刮板设置于吸附筒的外侧，且能够与吸附筒进行相对运动，进而刮除吸附筒的外表面上的吸附物。

其中，吸附筒活动设置在容置腔内，以通过将吸附筒移入或移出容置腔来实现与刮板的相对运动；或者吸附筒和刮板中的一个能够绕另一个进行相对转动。

其中，吸附筒和刮板中的一个能够绕另一个进行相对转动，其中当磁体在容置腔内形成磁化区时，刮板设置在吸附筒背离进液口的一侧，以使得吸附筒的朝向进液口的一侧直接暴露于液流。

其中，除铁装置括第二传动装置，用于传动吸附筒和刮板中的一个相对另一运动。

其中，吸附筒和容置腔在垂直于进液口所限定的的液流流向方向的平面上的投影面积之间的比例为0.2-0.7。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请所提供的除铁装置，能够在容置腔内选择性形成磁化区；使其在形成磁化区时，能够对含铁杂质进行吸附，以去除含铁杂质；而在需要去吸附的杂质进行清洗时，则控制在容置腔内不形成磁化区，解除对含铁杂质的吸附，便于清洗；从而能够方便、快捷高效的除去含铁杂质。