[发明专利]接合材料和接合构造体在审

专利信息
申请号: 201810314557.0 申请日: 2014-02-07
公开(公告)号: CN108569908A 公开(公告)日: 2018-09-25
发明(设计)人: 儿玉一宗;内藤孝;藤枝正;泽井裕一;青柳拓也;宫城雅德 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: C04B37/02 分类号: C04B37/02;C03C27/04;C03C12/00;C03C8/24;B32B7/04;B32B15/00;B32B17/00;H01L23/29
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基材 氧化物 接合构造体 金属 玻璃组合物 接合材料层 接合材料 半导体 陶瓷 金属化处理 玻璃 基材接合 接合 软钎料 种基材 换算
【权利要求书】:

1.一种接合构造体,其特征在于,具备:

第一基材;

第二基材;和

将所述第一基材和所述第二基材接合的接合材料层,

所述第一基材为陶瓷、半导体和玻璃中的任一种基材,

所述接合材料层包含金属和氧化物,

所述氧化物包含玻璃组合物,该玻璃组合物含有Ag、V和Te,且按氧化物换算V2O5、TeO2和Ag2O的合计含量为85质量%以上、不到100质量%,

在所述第一基材与所述金属之间的至少一部分存在所述氧化物,

在所述金属中分散有所述氧化物,

在所述第一基材与所述金属之间存在的所述氧化物的厚度为100nm以下。

2.如权利要求1所述的接合构造体,其特征在于:

在所述金属中分散有空隙。

3.如权利要求1所述的接合构造体,其特征在于:

所述氧化物含有Sb、Ba、W、Fe和碱金属中的至少一种元素。

4.如权利要求1所述的接合构造体,其特征在于:

所述第一基材为氧化铝、氮化铝、氮化硅、硅和碳化硅中的任一种,

所述第二基材为金属基材或金属与陶瓷的复合材料基材。

5.如权利要求4所述的接合构造体,其特征在于:

所述第二基材为Cu、Al和Al-SiC中的任一种。

6.如权利要求1所述的接合构造体,其特征在于:

所述第一基材为氮化铝或氮化硅,该第一基材的表面上0.1~5μm的范围的主要成分为氧化物。

7.如权利要求1所述的接合构造体,其特征在于:

所述金属包含Ag、Cu、Al、Sn、Zn、Au、In、Bi和Pt中的至少一种。

8.一种接合材料,其为通过加热将基材彼此接合的接合材料,其特征在于,具有:

成分中含有V和Te,且Pb为RoHS指令的指定值以下的玻璃;和金属,

所述玻璃含有Ag、V和Te,且按氧化物换算V2O5、TeO2和Ag2O的合计含量为85质量%以上、不到100质量%,

在所述金属中埋入有玻璃的颗粒,

在所述基材与所述金属之间存在的所述玻璃的颗粒的厚度为100nm以下。

9.如权利要求8所述的接合材料,其特征在于:

还具有溶剂,所述接合材料为膏状,所述金属为金属颗粒。

10.如权利要求8所述的接合材料,其特征在于:

所述接合材料的形状为箔状或板状。

11.如权利要求8所述的接合材料,其特征在于:

所述接合材料具有多个层,

所述多个层中的一个层为金属层,

所述多个层中的一个层为玻璃层。

12.如权利要求9~11中任一项所述的接合材料,其特征在于:

所述玻璃中的TeO2的含量为25质量%以上、40质量%以下。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810314557.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top