[发明专利]一种低剂量X射线激活的长余辉纳米材料及其应用在审
申请号: | 201810316249.1 | 申请日: | 2018-04-10 |
公开(公告)号: | CN108315009A | 公开(公告)日: | 2018-07-24 |
发明(设计)人: | 杨黄浩;林夏辉;宋良;李娟 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | C09K11/02 | 分类号: | C09K11/02;C09K11/06;C09K11/62;A61K41/00 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350108 福建省福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 长余辉 纳米材料 光动力治疗 低剂量 深层组织 光敏剂 纳米粒子表面 氨基化处理 长余辉发光 表面修饰 纳米粒子 穿透力 双掺杂 应用 合成 局限 | ||
1.一种低剂量X射线激活的长余辉纳米材料,其特征在于;其制备方法包括以下步骤:
1)合成钨、铬双掺杂的长余辉纳米粒子;
2)对所得长余辉纳米粒子表面进行氨基化处理;
3)在氨基化的长余辉纳米粒子表面修饰光敏剂。
2. 根据权利要求1所述的长余辉纳米材料,其特征在于:所述钨、铬双掺杂的长余辉纳米粒子的合成方法为:将硝酸锌、硝酸镓、钨酸钠、硝酸铬于水中溶解、混合,用氨水调节pH后移入高压反应釜中,在120-180 ℃下水热反应12-24小时,再经水洗、烘干,850-950 ℃煅烧3-5小时。
3.根据权利要求2所述的长余辉纳米材料,其特征在于:所用硝酸锌、硝酸镓、钨酸钠、硝酸铬的摩尔比为1:1.99:0.005:0.005;氨水调节pH至6-7。
4.根据权利要求1所述的长余辉纳米材料,其特征在于:所述氨基化处理是采用氨丙基三乙氧基硅烷进行处理。
5.根据权利要求1所述的长余辉纳米材料,其特征在于:所述光敏剂为四磺酸基锌酞菁。
6. 一种如权利要求1所述长余辉纳米材料在制备深层组织光动力治疗药物上的应用,其特征在于;采用0.1-0.2 Gy剂量的X射线对所述长余辉纳米材料进行激活。
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