[发明专利]一种低剂量X射线激活的长余辉纳米材料及其应用在审

专利信息
申请号: 201810316249.1 申请日: 2018-04-10
公开(公告)号: CN108315009A 公开(公告)日: 2018-07-24
发明(设计)人: 杨黄浩;林夏辉;宋良;李娟 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: C09K11/02 分类号: C09K11/02;C09K11/06;C09K11/62;A61K41/00
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350108 福建省福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 长余辉 纳米材料 光动力治疗 低剂量 深层组织 光敏剂 纳米粒子表面 氨基化处理 长余辉发光 表面修饰 纳米粒子 穿透力 双掺杂 应用 合成 局限
【权利要求书】:

1.一种低剂量X射线激活的长余辉纳米材料,其特征在于;其制备方法包括以下步骤:

1)合成钨、铬双掺杂的长余辉纳米粒子;

2)对所得长余辉纳米粒子表面进行氨基化处理;

3)在氨基化的长余辉纳米粒子表面修饰光敏剂。

2. 根据权利要求1所述的长余辉纳米材料,其特征在于:所述钨、铬双掺杂的长余辉纳米粒子的合成方法为:将硝酸锌、硝酸镓、钨酸钠、硝酸铬于水中溶解、混合,用氨水调节pH后移入高压反应釜中,在120-180 ℃下水热反应12-24小时,再经水洗、烘干,850-950 ℃煅烧3-5小时。

3.根据权利要求2所述的长余辉纳米材料,其特征在于:所用硝酸锌、硝酸镓、钨酸钠、硝酸铬的摩尔比为1:1.99:0.005:0.005;氨水调节pH至6-7。

4.根据权利要求1所述的长余辉纳米材料,其特征在于:所述氨基化处理是采用氨丙基三乙氧基硅烷进行处理。

5.根据权利要求1所述的长余辉纳米材料,其特征在于:所述光敏剂为四磺酸基锌酞菁。

6. 一种如权利要求1所述长余辉纳米材料在制备深层组织光动力治疗药物上的应用,其特征在于;采用0.1-0.2 Gy剂量的X射线对所述长余辉纳米材料进行激活。

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