[发明专利]制造显示装置的方法

说明书

提供了一种制造显示装置的方法。所述方法包括准备有机发光器件和形成封装构件以封装有机发光器件。形成封装构件的步骤包括：通过在有机发光器件上提供原料气体来在有机发光器件上形成第一无机封装层；通过在第一无机封装层上施用有机材料形成第一有机封装层；以及在第一有机封装层上形成第二无机封装层。原料气体包括一氧化二氮气体、氮气、氨气和氢气，一氧化二氮气体和氮气的流量的总和与氨气和氢气的流量的总和的比为大约1.1或更小。

本申请要求于2017年7月12日向韩国知识产权局提交的第10-2017-0088676号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。

技术领域

本发明的实施例的方面涉及一种制造显示装置的方法。

背景技术

有机发光显示装置包括包含阳极、有机发光层和阴极的有机发光器件。有机发光层易受湿气(例如，水)和氧的影响。例如，当湿气或氧从外部渗透到有机发光显示装置中时，会使有机发光层劣化，导致诸如暗点和像素收缩等的各种缺陷。因此，可以使用封装部件(例如，封装层)来保护有机发光器件。

发明内容

本发明的实施例涉及一种制造显示装置的方法，在该方法期间产生减少的量的紫外光。

本发明的实施例还提供一种制造显示装置的方法，该方法改善了有机发光器件的发光效率和寿命。

根据本发明的实施例，一种制造显示装置的方法包括准备有机发光器件和形成封装构件以封装有机发光器件。形成封装构件的步骤包括：通过在有机发光器件上提供原料气体来在有机发光器件上形成第一无机封装层；通过在第一无机封装层上施用有机材料来形成第一有机封装层；以及在第一有机封装层上形成第二无机封装层。原料气体包括一氧化二氮(N₂O)气体、氮(N₂)气、氨(NH₃)气和氢(H₂)气，一氧化二氮气体和氮气的流量的总和与氨气和氢气的流量的总和的比等于或小于大约1.1。

形成第一无机封装层的步骤可以包括执行等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺或等离子体增强原子层沉积(PEALD)工艺。

在形成第一无机封装层期间可以产生紫外光，紫外光的照射量可以等于或小于大约1000mJ/cm²。

一氧化二氮气体和氮气的流量的总和与氨气和氢气的流量的总和的比可以等于或大于大约0.5。

形成第二无机封装层的步骤可以包括在第一有机封装层上提供原料气体。

第一无机封装层可以包括氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氮氧化硅(SiO_xN_y)中的至少一种。

原料气体还可以包括硅烷(SiH₄)气体。

形成第一有机封装层的步骤可以包括执行闪蒸工艺、丝网印刷工艺或喷墨工艺。

所述方法还可以包括：在形成第二无机封装层之后，通过在第二无机封装层上施用有机材料来形成第二有机封装层；以及在第二有机封装层上形成第三无机封装层。形成第三无机封装层的步骤可以包括在第二有机封装层上提供原料气体。

第二无机封装层和第三无机封装层可以包括氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氮氧化硅(SiO_xN_y)中的至少一种。

有机发光器件可以包括第一电极、面向第一电极并邻近封装构件的第二电极以及位于第一电极与第二电极之间并用于产生光的发光层。可以在从第一电极朝向第二电极的方向上发射光。