[发明专利]发射体浸润方法及其专用装置

权利要求书

1.一种发射体浸润方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：将发射体浸没在推进剂中，利用真空环境下发射体以及推进剂中气体逸出使得推进剂在重力作用以及毛细作用下进入多孔发射体中的微细流道，完成发射体在装配前的浸润工作。

2.根据权利要求1所述的发射体浸润方法，其特征在于，当真空度达到10^-3Pa量级且推进剂中不产生气泡时即完成对发射体的浸润。

3.一种如权利要求1所述的发射体浸润方法的专用发射体浸润装置，其特征在于，所述装置主要由真空舱、发射体、推进剂容器、透气薄膜、分子泵和机械泵组成；所述推进剂容器内装有推进剂，所述发射体浸没在所述推进剂中，所述推进剂容器安装在真空舱内，所述推进剂容器的开口覆盖有透气不透液的薄膜；所述分子泵和机械泵分别与真空舱相连，所述机械泵对真空舱进行粗抽，粗抽至舱内真空度达到10Pa量级时，关闭机械泵开启分子泵继续抽真空。

4.根据权利要求3所述的专用发射体浸润装置，其特征在于，所述推进剂容器采用透明材质；所述推进剂容器的尺寸略大于发射体。

5.根据权利要求4所述的专用发射体浸润装置，其特征在于，所述推进剂容器透明有机玻璃制成。

6.根据权利要求3所述的专用发射体浸润装置，其特征在于，对发射体进行浸润时，所述真空舱工作至分子泵转速达到最大，真空度达到10^-3Pa量级且推进剂不再产生气泡后持续浸润4-8分钟即完成浸润。

7.根据权利要求3所述的专用发射体浸润装置，其特征在于，所述装置还包括设于真空舱内的支架，所述推进剂容器放置于所述支架上。

8.根据权利要求3所述的专用发射体浸润装置，其特征在于，所述真空舱上设有透明观察窗。