[发明专利]一种基于高能球磨法制备AWO4单相陶瓷的方法在审
申请号: | 201810322168.2 | 申请日: | 2018-04-11 |
公开(公告)号: | CN108298982A | 公开(公告)日: | 2018-07-20 |
发明(设计)人: | 程琳 | 申请(专利权)人: | 长安大学 |
主分类号: | C04B35/495 | 分类号: | C04B35/495;C04B35/626;C04B35/622 |
代理公司: | 西安研创天下知识产权代理事务所(普通合伙) 61239 | 代理人: | 杨凤娟 |
地址: | 710064 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单相陶瓷 高能球磨 单相粉体 纳米粉体 制备 微波介电性能 高能球磨法 低温制备 工艺制备 粉体 球磨 细化 陶瓷 | ||
1.一种基于高能球磨法制备AWO4单相陶瓷的方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、通过高能球磨法在30 min内制备AWO4 (A = Ca, Ba)单相粉体;
S2、将所得的AWO4 (A = Ca, Ba)单相粉体经过30 h球磨后,细化得到110~120 nm大小的纳米粉体;
S3、将所得的纳米粉体在900 ~1000 oC下低温制备出高致密度的AWO4 (A = Ca, Ba)单相陶瓷。
2.如权利要求1所述的一种基于高能球磨法制备AWO4单相陶瓷的方法,其特征在于,所述步骤S2使用Pulverisette 4行星高能球磨机对前驱粉体进行球磨,球磨罐与磨球介质都为碳化钨,按球:料:去离水比为20:1:1.5的比例放入球磨罐中球磨,球磨转速为300/450rpm,在球磨过程中每球磨60分钟,需要停止冷却30分钟。
3.如权利要求1所述的一种基于高能球磨法制备AWO4单相陶瓷的方法,其特征在于,所述步骤S3具体包括如下步骤:
球磨完成后出料干燥,随后再进行造粒、压片成型,加入浓度为5 wt% 的聚乙烯醇(PVA)作为粘合剂造粒,过筛后在约198 MPa的压力下,压制成厚度大约为4-6 mm、直径为10mm的圆柱状块体;将压好的块体放在炉中,在825~1025℃温度下进行烧结成瓷,烧结过程中需要在500 oC时进行排胶3 h,升温速率为1 °C/min,保温3 h后降温,降温速率为1 °C/min。
4.如权利要求1所述的一种基于高能球磨法制备AWO4单相陶瓷的方法,其特征在于,CaWO4陶瓷的最佳烧结温度为900 °C,相对密度高达98%,微波介电性能:= 10.7,
5.如权利要求1所述的一种基于高能球磨法制备AWO4单相陶瓷的方法,其特征在于,BaWO4陶瓷的最佳烧结温度为1000 °C,相对密度为97%,其微波介电性能为:= 8.5,
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