[发明专利]色轮组件及光源系统及投影设备有效

专利信息
申请号: 201810326971.3 申请日: 2018-04-12
公开(公告)号: CN110376728B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 戴达炎;周浩;李屹 申请(专利权)人: 深圳光峰科技股份有限公司
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00;G03B21/20
代理公司: 广东广和律师事务所 44298 代理人: 陈巍巍
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 组件 光源 系统 投影设备
【说明书】:

发明提供一种色轮组件及激发光源及投影设备,其中色轮组件的红荧光区对应处一侧设置有氮化硼涂层,另一侧设置有玻璃粉,非红荧光区的两面均设置有玻璃粉涂层。通过在红荧光区对应位置设置氮化硼材料,相较于玻璃粉,氮化硼材料的导热性更好,且氮化硼的晶体结构为层状结构,可以有效起到光线阻挡的效果,从而使得入射至红荧光粉处的激发光可以进一步减少,可以有效避免红荧光在较强激发光直接照射下而产生的衰减,因此无需专门针对红荧光粉进行激发光线强度的调节,保持同样的激发光电路即可以同时满足不同荧光粉的激发,有效解决了红荧光粉的热淬灭问题,使得系统效果更好,延长了使用寿命,并有效降低生产成本。

技术领域

本发明涉及光学领域,尤其是涉及一种色轮组件以及使用该色轮组件的光源系统及投影设备。

背景技术

目前,投影设备的技术发展迅速,得到了广泛的应用。在投影设备中,激发光源和波长转换装置作为最关键的部件,通常,波长转换装置为色轮,其上设置有时序经过激发光照射的不同荧光粉,经激发光照射后产生不同的受激光。

由于红荧光粉在过高强度的激发光的激发下,容易产生光饱和现象,即:随着激发光强度的升高,红荧光粉出射红荧光的出光量并不是一直升高;而是当激发光强度上升到一定程度时,红荧光粉出射红荧光的出光量不会上升,反而下降。而黄/绿荧光粉则可以在相对较高强度的激发光下被激发,并且出光效率不会下降。因此,为了保证受激光的稳定性,需要不断调节激发光强度,使得当红荧光粉段位于激发光路时激发光的强度低于黄/绿荧光位于激发光路时激发光的强度。

然而,在色轮高速旋转的状态下,对应调节激发光的电流,会产生同步困难的问题,即激发光的调节步调与色轮的红荧光粉段和黄/绿荧光粉段位于激发光路上的步调有可能不一致,从而导致色轮上的红荧光粉亮度衰减的问题。

因此,有必要提供一种新的色轮组件及光源系统及投影设备以解决上述问题。

发明内容

本发明提供一种色轮组件及光源系统和投影设备,可以解决红荧光粉的热淬灭问题,而无需实时调整激发光的电流。

为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种色轮组件,包括用于发出激发光的激发光源和色轮组件,所述色轮组件上设置有用于接收激发光并发出受激光的荧光层,所述荧光层包括时序经过所述激发光的光路的具有红荧光粉的红荧光区和至少一个非红荧光区,所述红荧光区的一面设置有氮化硼涂层、一面设置有玻璃粉涂层,所述非红荧光区的两面均设置有玻璃粉涂层。

优选的,所述色轮组件包括设置在所述荧光层两侧的基板层和滤光层,所述氮化硼涂层设置在所述基板层与所述荧光层之间,所述玻璃粉涂层设置在所述滤光层与所述荧光层之间。

优选的,所述氮化硼涂层为在所述荧光区靠近所述光源的一侧表面喷涂氮化硼形成。

优选的,所述氮化硼的喷涂厚度为0.01~0.030um。

优选的,所述氮化硼涂层为在所述基板表面喷涂氮化硼形成。

优选的,所述氮化硼的喷涂厚度为0.01~0.050um。

优选的,对应所述红荧光区的所述玻璃粉涂层为在所述荧光层远离所述激发光一侧表面喷涂玻璃粉形成,所述玻璃粉的喷涂厚度为0.005~0.020mm。

优选的,对应所述红荧光区的所述玻璃粉涂层为在所述基板表面喷涂玻璃粉形成,所述玻璃粉的喷涂厚度为0.005~0.030mm。

优选的,所述第二空隙层为在所述荧光层远离所述激发光一侧表面喷涂玻璃粉形成。

优选的,所述基板层为蓝宝石制成的透蓝反黄层。

优选的,所述非红荧光区为绿荧光区、黄荧光区或蓝荧光区中的任意一种。

优选的,所述滤光层为分别贴设在所述红荧光区和所述非红荧光区的滤光片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳光峰科技股份有限公司,未经深圳光峰科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810326971.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top