[发明专利]量子点成膜方法、显示面板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201810327290.9 | 申请日: | 2018-04-12 |
公开(公告)号: | CN108539031B | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
发明(设计)人: | 罗程远;吴长晏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 刘延喜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 量子 点成膜 方法 显示 面板 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种量子点成膜方法,其特征在于,包括:
在待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层;
施加磁场,使所述磁性光致量子点涂层中的磁性量子点分布于靠近所述邻接膜层所在的一侧;
对所述磁性光致量子点涂层进行干燥处理。
2.根据权利要求1所述的量子点成膜方法,其特征在于,所述在待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层的步骤,包括:通过喷墨打印的方式在所述待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层。
3.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
利用如权利要求1或2所述的量子点成膜方法在亚像素区域内的发光器件层上形成量子点层。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法,其特征在于,在形成所述量子点层之前,还包括:
在阵列基板上形成所述发光器件层;
在所述发光器件层上形成封装层。
5.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述发光器件层上形成封装层之前,还包括:在所述发光器件层与所述封装层之间形成第一平坦层。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制作方法,其特征在于,在形成第一平坦层之前,还包括:在所述发光器件层与所述第一平坦层之间形成第一封装层。
7.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述在阵列基板上形成所述发光器件层的步骤,包括:
在阵列基板上形成像素界定层,所述像素界定层在所述阵列基板的表面形成多个相互隔离的亚像素区域;
在所述阵列基板上依次形成层叠覆盖所述像素界定层的阳极层、发光层、阴极层。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述发光器件层中的发光层为能够发出单色蓝光的蓝色发光层,在一个像素单元所包括的各亚像素区域中至少有两个亚像素区域内分别形成有吸收蓝光而发射红光的量子点层和吸收蓝光而发射绿光的量子点层。
9.根据权利要求3或8所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述磁性光致量子点涂层中的磁性量子点的粒径为3nm~10nm。
10.根据权利要求3或8所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述亚像素区域内所述量子点层的宽度不小于所述发光器件层的宽度,其中,所述宽度是指显示面板横截面的水平方向的尺寸。
11.一种显示面板,其特征在于,其由权利要求3至10中任一项所述的显示面板的制作方法制作而成。
12.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求11所述的显示面板。
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