[发明专利]电子装置及其壳体和壳体的制造方法

权利要求书

1.一种电子装置的壳体，其特征在于，所述壳体包括塑料基材、设置于所述塑料基材上的色漆层、设置于所述色漆层上的结合层、设置于所述结合层上的光学膜层、设置于所述光学膜层上的面漆层；其中，所述结合层和所述面漆层均为可透光材质，所述光学膜层包括通过溅射或者蒸镀工艺形成在所述结合层上的至少一层金属氧化物层；

所述结合层为UV涂料层，所述UV涂料层的表面涂布有光学胶层，以增加所述结合层的表面粗糙度；或者，所述UV涂料层中掺杂有N，N-二甲基甲酰胺，以使得所述结合层的表面具有微孔。

2.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述面漆层通过在所述光学膜层上喷涂UV型面漆层涂料形成，所述UV型面漆层涂料的粘度为9.5～10.5秒(NK-2,秒/25℃)。

3.根据权利要求2所述的壳体，其特征在于，所述UV型面漆涂料包括UV涂料和三氧化二铝颗粒，所述三氧化二铝颗粒的平均粒径小于100nm。

4.根据权利要求3所述的壳体，其特征在于，所述UV型面漆层涂料进一步包括氟碳丙烯酸酯。

5.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述光学膜层至少包括折射膜层，用于对经过所述折射膜层的光线进行折射，所述折射膜层包括层叠设置的第一钛氧化物层、硅氧化物层以及第二钛氧化物层。

6.根据权利要求5所述的壳体，其特征在于，所述光学膜层进一步包括与所述折射膜层层叠设置的可透光的硬度强化层，所述硬度强化层设置在所述折射膜层背向所述塑料基材的表面上，所述硬度强化层为三氧化二铝层或者单晶二氧化锆层。

7.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述色漆层的厚度为8-12微米，所述结合层的厚度为20-25微米，所述面漆层的厚度为20-25微米。

8.一种电子装置的壳体的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

在塑料基材上形成色漆层；

在所述色漆层上形成结合层；其中，所述结合层为UV涂料层，所述UV涂料层的表面涂布有光学胶层，以增加所述结合层的表面粗糙度；或者，所述UV涂料层中掺杂有N，N-二甲基甲酰胺，以使得所述结合层的表面具有微孔；

在所述结合层上形成光学膜层；

在所述光学膜层上形成面漆层；

其中，所述结合层和所述面漆层均为可透光材质，所述光学膜层包括通过溅射或者蒸镀工艺形成在所述结合层上的至少一层金属氧化物层。

9.一种电子装置，其特征在于，所述电子装置包括装置主体和用于对所述装置主体进行保护的壳体，所述壳体为权利要求1-7任意一项所述的壳体。