[发明专利]一种基底边缘保护环单元、光刻设备及保护方法

权利要求书

1.一种基底边缘保护环单元，其特征在于，包括：

保护环；

保护环托盘；

所述保护环上设有第一固定部件，所述保护环托盘上设有与所述第一固定部件对应的第二固定部件，当所述保护环置于所述保护环托盘上时，所述第一固定部件与所述第二固定部件配合，将所述保护环固定在所述保护环托盘上；

所述保护环用于在曝光过程中对基底的边缘进行遮挡，避免基底边缘的负胶在曝光过程中被曝光。

2.根据权利要求1所述的基底边缘保护环单元，其特征在于，所述第一固定部件包括至少一个销孔和至少一个腰形孔；所述第二固定部件包括与所述销孔和腰形孔对应的至少两个定位销；当所述保护环置于所述保护环托盘上时，每个所述定位销分别与对应的销孔或腰形孔间隙配合，将所述保护环固定在所述保护环托盘上。

3.根据权利要求1所述的基底边缘保护环单元，其特征在于，所述保护环的边缘还设有第一定位部件，所述保护环托盘的边缘设有与所述第一定位部件对应的第二定位部件，当所述保护环固定于所述保护环托盘上时，所述第一定位部件和所述第二定位部件对齐。

4.根据权利要求1所述的基底边缘保护环单元，其特征在于，所述保护环托盘为轮辐状，包括位于所述保护环托盘中心的实心圆盘，以及由所述保护环托盘中心向外伸出的至少三根辐条，所述辐条的端部包括支撑结构，所述支撑结构用于承载所述保护环。

5.根据权利要求1所述的基底边缘保护环单元，其特征在于，所述保护环上还设有用于存储所述保护环识别信息的识别标签。

6.一种保护环库单元，其特征在于，用于存储如权利要求1-5任一所述的基底边缘保护环单元，包括：

保护环库，所述保护环库设有若干个置环空间，用于存放若干个保护环；

所述保护环库的每一个置环空间内设有第一定位机构，用于配合保护环上的第一定位部件和保护环托盘的上的第二定位部件，锁紧或松开所述基底边缘保护环单元。

7.根据权利要求6所述的保护环库单元，其特征在于，所述第一定位机构包括两个第一定位轴承和一个活动的第一气缸顶针；

所述第一定位轴承可绕其轴线转动，所述第一气缸顶针可在气缸的推动下来回伸缩；

当所述基底边缘保护环单元位于所述置环空间内时，所述第一定位轴承的外缘与基底边缘保护环单元的外缘相切；所述第一气缸顶针，配合所述第一定位部件和第二定位部件，用于锁紧或松开所述基底边缘保护环单元。

8.一种光刻设备，其特征在于，包括如权利要求6或7任一所述的保护环库单元，所述保护环库单元用于存储如权利要求1-5任一所述的基底边缘保护环单元；

还包括曝光台单元、保护环抓取单元、机械手单元；

所述曝光台单元用于承载和固持所述基底边缘保护环单元以及基底；

所述保护环抓取单元与所述曝光台单元相对设置，用于抓取或释放所述保护环；

所述机械手单元用于完成在所述保护环库单元和曝光台单元之间基底边缘保护环单元的转移。

9.根据权利要求8所述的光刻设备，其特征在于，所述保护环库单元和/或所述保护环抓取单元还包括识别单元，用于读取存储在所述识别标签内的保护环的识别信息。

10.根据权利要求8所述的光刻设备，其特征在于，所述机械手单元还用于传输基底。

11.根据权利要求8所述的光刻设备，其特征在于，所述曝光台单元包括曝光台和若干个吸附柱，所述吸附柱位于曝光台内部，且可垂向运动，用于完成在所述曝光台与机械手单元之间基底边缘保护环单元和基底的交接。

12.根据权利要求8所述的光刻设备，其特征在于，所述曝光台单元还包括第二定位机构，用于配合保护环上的第一定位部件和保护环托盘的上的第二定位部件，锁紧或松开所述基底边缘保护环单元。