[发明专利]一种基于参考图像的结构光系统解相方法及系统有效

专利信息
申请号: 201810331568.X 申请日: 2018-04-13
公开(公告)号: CN108613637B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 朱宪伟;徐玉华;周阳 申请(专利权)人: 深度创新科技(深圳)有限公司
主分类号: G01B11/25 分类号: G01B11/25
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 唐致明;洪铭福
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 参考 图像 结构 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,其包括以下步骤:

S1,系统控制结构光系统向一平面场景投射不少于两幅图像,其中投射图像至少包括一幅二值条纹图A和一幅参考纹理图B;系统采集上述图像,分别得到条纹图C和纹理图D,并得到所述纹理图D的编码图E;

S2,系统控制结构光系统向待测三维场景投射不少于四幅图像,其中投射的图像至少包括三幅相移图F和一幅所述参考纹理图B,且所述相移图F的条纹与所述二值条纹图A的条纹宽度相同;系统采集各图像,得到纹理图G和相移条纹图I;

S3,求解得到所述相移条纹图I的相对相位图;

S4,系统将采集到的纹理图G与所述纹理图D进行匹配对齐,确定所述纹理图G的每个像素(x,y)在纹理图D上的映射坐标(x′,y′),进而确定各像素对应的周期数;

S5,系统得到各像素的绝对相位。

2.根据权利要求1所述的基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,所述编码图E的每一像素值对应于条纹图C相同坐标下的条纹编号可表示为;

E(x,y)=k(k=1,2,…N)

其中,N为条纹数目,k为条纹周期数。

3.根据权利要求1所述的基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,三幅所述相移条纹图I可表示为:

其中,I′(x,y)表示平均亮度,I″(x,y)为调制信号的幅度,表示绝对相位。

4.根据权利要求3所述的基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,所述相对相位图的相对相位可表示为:

其中,相对相位的取值范围为[-π,π]。

5.根据权利要求4所述的基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,所述各像素对应的周期数可表示为:K(x,y)=E(x′,y′)。

6.根据权利要求5所述的基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,所述绝对相位可表示为:

7.一种基于参考图像的结构光系统解相系统,其特征在于,其包括:

投影及图像采集模块,用于执行步骤S1,系统控制结构光系统向一平面场景投射不少于两幅图像,其中投射图像至少包括一幅二值条纹图A和一幅参考纹理图B;

系统采集上述图像,分别得到条纹图C和纹理图D,并得到所述纹理图D的编码图E;

S2,系统控制结构光系统向待测三维场景投射不少于四幅图像,其中投射的图像至少包括三幅相移图F和一幅所述参考纹理图B,且所述相移图F的条纹与所述二值条纹图A的条纹宽度相同;系统采集各图像,得到纹理图G和相移条纹图I;

相位计算模块,用于执行步骤S3,求解得到所述相移条纹图I的相对相位图;

S4,系统将采集到的纹理图G与所述纹理图D进行匹配对齐,确定所述纹理图G的每个像素(x,y)在纹理图D上的映射坐标,进而确定各像素对应的周期数;

S5,系统得到各像素的绝对相位。

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