[发明专利]一种基于参考图像的结构光系统解相方法及系统有效
申请号: | 201810331568.X | 申请日: | 2018-04-13 |
公开(公告)号: | CN108613637B | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 朱宪伟;徐玉华;周阳 | 申请(专利权)人: | 深度创新科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 唐致明;洪铭福 |
地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 参考 图像 结构 系统 方法 | ||
1.一种基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,其包括以下步骤:
S1,系统控制结构光系统向一平面场景投射不少于两幅图像,其中投射图像至少包括一幅二值条纹图A和一幅参考纹理图B;系统采集上述图像,分别得到条纹图C和纹理图D,并得到所述纹理图D的编码图E;
S2,系统控制结构光系统向待测三维场景投射不少于四幅图像,其中投射的图像至少包括三幅相移图F和一幅所述参考纹理图B,且所述相移图F的条纹与所述二值条纹图A的条纹宽度相同;系统采集各图像,得到纹理图G和相移条纹图I;
S3,求解得到所述相移条纹图I的相对相位图;
S4,系统将采集到的纹理图G与所述纹理图D进行匹配对齐,确定所述纹理图G的每个像素(x,y)在纹理图D上的映射坐标(x′,y′),进而确定各像素对应的周期数;
S5,系统得到各像素的绝对相位。
2.根据权利要求1所述的基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,所述编码图E的每一像素值对应于条纹图C相同坐标下的条纹编号可表示为;
E(x,y)=k(k=1,2,…N)
其中,N为条纹数目,k为条纹周期数。
3.根据权利要求1所述的基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,三幅所述相移条纹图I可表示为:
其中,I′(x,y)表示平均亮度,I″(x,y)为调制信号的幅度,表示绝对相位。
4.根据权利要求3所述的基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,所述相对相位图的相对相位可表示为:
其中,相对相位的取值范围为[-π,π]。
5.根据权利要求4所述的基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,所述各像素对应的周期数可表示为:K(x,y)=E(x′,y′)。
6.根据权利要求5所述的基于参考图像的结构光系统解相方法,其特征在于,所述绝对相位可表示为:
7.一种基于参考图像的结构光系统解相系统,其特征在于,其包括:
投影及图像采集模块,用于执行步骤S1,系统控制结构光系统向一平面场景投射不少于两幅图像,其中投射图像至少包括一幅二值条纹图A和一幅参考纹理图B;
系统采集上述图像,分别得到条纹图C和纹理图D,并得到所述纹理图D的编码图E;
S2,系统控制结构光系统向待测三维场景投射不少于四幅图像,其中投射的图像至少包括三幅相移图F和一幅所述参考纹理图B,且所述相移图F的条纹与所述二值条纹图A的条纹宽度相同;系统采集各图像,得到纹理图G和相移条纹图I;
相位计算模块,用于执行步骤S3,求解得到所述相移条纹图I的相对相位图;
S4,系统将采集到的纹理图G与所述纹理图D进行匹配对齐,确定所述纹理图G的每个像素(x,y)在纹理图D上的映射坐标,进而确定各像素对应的周期数;
S5,系统得到各像素的绝对相位。
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