[发明专利]一种微电子产品自动化清洗设备及其使用方法

权利要求书

1.一种微电子产品自动化清洗设备，其特征在于：包括输送机、回转支架与电机一，回转支架与电机的输出轴相连接，回转支架的两个末端对称的安装有抓取机构一，抓取机构一能够固定在抓取位置和清洗位置，输送机的末端位于抓取位置的下方，清洗位置的下方设有清洗箱，清洗箱的外部设有存储罐，存储罐的外部设有蒸汽发生器，蒸汽发生器的外部设有泵一，泵一的两端分别连接至蒸汽发生器和清洗箱，清洗箱的外部还设有可移动的送料机构。

2.根据权利要求1所述的微电子产品自动化清洗设备，其特征在于：所述抓取机构一包括吸附头一、电机二及升降机一，吸附头一安装在电机二的输出轴上，升降机一的两端分别与电机二和回转支架的末端相连接。

3.根据权利要求1所述的微电子产品自动化清洗设备，其特征在于：所述清洗箱内还设有抓取机构二。

4.根据权利要求3所述的微电子产品自动化清洗设备，其特征在于：所述抓取机构二包括吸附头二、电机三、升降机二及滑块一，吸附头二安装在电机三的输出轴上，升降机二的两端分别与电机三和滑块一相连接，清洗箱内设有轨道一，滑块一可移动的安装在轨道一内，抓取机构二可以固定在受料工位和放料工位。

5.根据权利要求1所述的微电子产品自动化清洗设备，其特征在于：所述送料机构包括滑块二、轨道二、伸缩杆和吸附头三，轨道二固定在清洗箱的上方，滑块二可移动的安装在轨道二内，升缩杆的一端固定在滑块二上，升缩杆的另一端固定在吸附头三的尾部，吸附头三朝向清洗箱。

6.根据权利要求1所述的微电子产品自动化清洗设备，其特征在于：所述清洗箱的外部还设有泵二，泵二的入口连接至清洗箱。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的微电子产品自动化清洗设备的使用方法，其特征在于：包括如下步骤

步骤一、输送机将待清洗的微电子元件运送到抓取机构一的下方；

步骤二、吸附头一将待清洗的微电子元件吸附后，然后电机一启动，使回转支架带动抓取机构一转动，从抓取位置移动到清洗位置，然后升降机二启动，将微电子元件送入箱体内；

步骤三、电机二旋转，带动微电子元件做回转运动，通过离心力去除微电子元件上的水分，同时泵一和泵二分别启动，泵一将HF蒸汽泵入箱体内，从而对微电子元件进行清洗，泵二使箱体内保持负压环境；

步骤四、预设时间后，电机二停止工作，升降机二伸长，然后吸附头二吸附在微电子元件的清洗后的干净的表面，然后吸附头一松开，升降机二缩回，电机三启动带动微电子元件旋转，开始清理微电子元件的另一个表面；

步骤五、清理干净后，电机三停止工作，泵一与泵二停止，滑块一沿着轨道一移动，抓取机构从受料工位移动到放料工位；

步骤六、升缩杆伸长，吸附头三吸附在微电子元件的表面，然后吸附头二松开，伸缩杆缩短，然后滑块二沿着轨道二移动，将清洗干净的微电子元件输出。

8.根据权利要求7所述的微电子产品自动化清洗设备的使用方法，其特征在于：所述步骤四中，在清理微电子元件的另一个表面时，吸附头一保持位于清洗箱内，使吸附头一能够同样得到清洗，保持吸附头一表面的清洁。