[发明专利]异戊二烯低聚物及制造异戊二烯低聚物的方法有效
| 申请号： | 201810340783.6 | 申请日： | 2013-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN108484663B | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | 井之上雪乃;大谷典正 | 申请（专利权）人： | 住友橡胶工业株式会社;国立大学法人山形大学 |
| 主分类号： | C07F9/113 | 分类号： | C07F9/113;B60C1/00;C08G61/04;C08F36/08;C08L9/00;C08L15/00 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 汤国华 |
| 地址： | 日本国兵库县神户*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 异戊二烯低聚物 制造 方法 | ||
1.一种异戊二烯低聚物，其特征在于，由下式(X)所表示的烯丙基二磷酸和下式(Y)所表示的化合物合成而得，在该烯丙基二磷酸上加成的异戊二烯单元的数量为1至30，
式(X)中，n表示1至10的整数，部分异戊二烯单元可被改性；
式(Y)中，R表示含氮基团、含氧基团、含硫基团或含硅基团。
2.根据权利要求1所述的异戊二烯低聚物，其由所述式(X)所表示的烯丙基二磷酸、所述式(Y)表示的化合物和异戊烯基二磷酸合成而得。
3.根据权利要求1或2所述的异戊二烯低聚物，所述式(X)所表示的烯丙基二磷酸为下式(X-1)所表示的烯丙基二磷酸，下式(X-1)中的II部分中所含的至少一个原子或原子团被不同的原子或原子团取代，下式(X-1)中的III部分中所含的原子或原子团未被不同的原子或原子团取代，
式(X-1)中，n表示2至10的整数。
4.根据权利要求1或2所述的异戊二烯低聚物，所述合成使用具有异戊二烯基转移酶活性的酶进行。
5.一种异戊二烯低聚物，其特征在于，所述异戊二烯低聚物由下式(Z-1)所表示或由下式(Z-2)所表示，下式(Z-1)或下式(Z-2)中的v部分中所含的至少一个原子或原子团被氮原子、氧原子、硫原子、硅原子、含氮基团、含氧基团、含硫基团或含硅基团取代，
式(Z-1)中，n表示1至10的整数；m表示1至30的整数；Y表示羟基、甲酰基、羧基、烷氧基羧基、烷氧基羰基或OPP基；iv部分中所含的至少一个原子或原子团可被不同的原子或原子团取代；
式(Z-2)中，n表示1至10的整数；m表示1至30的整数；Y表示羟基、甲酰基、羧基、烷氧基羧基、烷氧基羰基或OPP基；iv部分中所含的至少一个原子或原子团可被不同的原子或原子团取代。
6.根据权利要求5所述的异戊二烯低聚物，所述式(Z-1)或所述式(Z-2)中的iv部分中所含的至少一个原子或原子团被不同的原子或原子团取代。
7.一种异戊二烯低聚物的制造方法，其特征在于，所述异戊二烯低聚物由下式(X)所表示的烯丙基二磷酸和下式(Y)所表示的化合物合成，在该烯丙基二磷酸上加成的异戊二烯单元的数量为1～30，
式(X)中，n表示1至10的整数，部分异戊二烯单元可被改性；
式(Y)中，R表示含氮基团、含氧基团、含硫基团或含硅基团。
8.根据权利要求7所述的异戊二烯低聚物的制造方法，所述异戊二烯低聚物由所述式(X)所表示的烯丙基二磷酸、所述式(Y)表示的化合物和异戊烯基二磷酸合成。
9.根据权利要求7或8所述的异戊二烯低聚物的制造方法，所述式(X)所表示的烯丙基二磷酸为下式(X-1)所表示的烯丙基二磷酸，下式(X-1)中的II部分中所含的至少一个原子或原子团被不同的原子或原子团取代，下式(X-1)中的III部分中所含的原子或原子团未被不同的原子或原子团取代
式(X-1)中，n表示2至10的整数。
10.根据权利要求7或8所述的异戊二烯低聚物的制造方法，所述合成使用具有异戊二烯基转移酶活性的酶进行。
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