[发明专利]红光模组密封结构及其实时密封性检测系统在审
| 申请号： | 201810341225.1 | 申请日： | 2018-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN110388626A | 公开（公告）日： | 2019-10-29 |
| 发明（设计）人： | 谢颂婷;易琪;程文波;李屹 | 申请（专利权）人： | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | F21V17/10 | 分类号： | F21V17/10;F21V31/00;G01M3/20 |
| 代理公司： | 广东广和律师事务所 44298 | 代理人： | 陈巍巍 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 胶水 上盖 红光模组 附着力 下盖 密封性检测系统 贴合 粘涂 密封结构 磨砂面 气密性 内圈 不良位置 顶部设置 惰性气体 快速定位 磨砂区域 相对两侧 平面的 传感器 检测 磨砂 视窗 密封 | ||
1.一种红光模组密封结构，包括上盖和下盖，所述上盖的顶部设置有视窗，其特征在于：所述上盖和所述下盖相贴合的相对两侧壁至少有一侧壁设置有磨砂面和平面，所述平面位于所述磨砂面的内圈，所述上盖和所述下盖的贴合面的内圈粘涂有第一胶水，所述上盖和所述下盖的贴合面的外圈粘涂有第二胶水，所述第一胶水的附着力和硬度大于所述第二胶水的附着力和硬度，所述第二胶水的粘涂区域包含磨砂区域。
2.根据权利要求1所述的一种红光模组密封结构，其特征在于：所述下盖的上表面的外边缘设置有所述磨砂面，所述磨砂面的内圈设置有所述平面，所述磨砂面低于所述平面。
3.根据权利要求2所述的一种红光模组密封结构，其特征在于：所述磨砂面与所述上盖的下底面之间的间隙，大于所述平面与所述上盖的下底面之间的间隙。
4.根据权利要求1所述的一种红光模组密封结构，其特征在于：所述上盖和所述下盖相贴合的相对两侧壁的外边缘均设置有所述磨砂面，所述磨砂面的内圈均设置为所述平面，所述磨砂面低于所述平面。
5.根据权利要求1所述的一种红光模组密封结构，其特征在于：所述上盖和所述下盖相贴合的相对两侧壁至少有一侧壁的外边缘设置有用于增加胶水注入量的倒角，所述倒角的倾斜面设置有所述磨砂面。
6.根据权利要求5所述的一种红光模组密封结构，其特征在于：所述下盖的上表面的外边缘向下倾斜设置有所述倒角，所述倒角与所述上盖的下底面之间的间隙，大于所述上盖与所述下盖之间的贴合间隙。
7.根据权利要求5所述的一种红光模组密封结构，其特征在于：所述下盖的上表面的外边缘及所述上盖的下表面的外边缘均设置有所述倒角。
8.根据权利要求7所述的一种红光模组密封结构，其特征在于：所述上盖及所述下盖相贴合的相对两侧壁均设置为平面，所述平面与所述倒角相邻设置。
9.一种实时密封性检测系统，其特征在于：包括权利要求1至8任意一项所述的红光模组密封结构，以及设置于所述红光模组密封结构的上盖和下盖两贴合面之间的惰性气体检测传感器；所述上盖和下盖之间的密封腔内填充有惰性气体，所述惰性气体检测传感器与外部电控装置电连接。
10.根据权利要求9所述的一种实时密封性检测系统，其特征在于：所述惰性气体设置为氦气、氖气或氩气。
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