[发明专利]一种含四嗪寡聚苯撑乙炔化合物及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810347835.2 申请日: 2018-04-18
公开(公告)号: CN110386903B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 王树;王建武;吕凤婷;刘礼兵 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所;中国科学院大学
主分类号: C07D257/08 分类号: C07D257/08;C07F9/6524;G01N21/64
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅;王春霞
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 含四嗪寡聚苯撑 乙炔 化合物 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种含四嗪寡聚苯撑乙炔化合物及其制备方法。该寡聚苯撑乙炔化合物的结构式如式Ⅰ所示,其中,R1选自下述基团中的任意一种:‑NHBoc、‑N+H3CF3COO‑、‑NHCO(CH2)5P+Ph3Cl。本发明提供的四嗪寡聚苯撑乙炔化合物初始状态下处于荧光淬灭的状态,能够在激光照射下发生荧光恢复,在荧光成像和检测等领域具有重要的应用价值。

技术领域

本发明涉及一种含四嗪寡聚苯撑乙炔化合物及其制备方法,属于有机合成领域。

背景技术

四嗪基团是一种能与反式环辛烯之间特异性正交反应的官能团,具有超高的反应速率,良好的生物相容性和生物正交性,能够在复杂的细胞内特异性地发生反应,从而从众多的生物正交反应对中脱颖而出,并成功应用到了基础生物学,成像和治疗等相关领域。

同时由于四嗪基团具有较强的吸电子能力,当通过离域的π-共轭体系连接到寡聚物上时,四嗪能够作为高效的能量受体,通过共轭体系内化学键之间高效的能量转移过程(TBET)淬灭荧光色团的荧光。这种被淬灭的探针可以通过激光照射破坏四嗪的荧光淬灭效果,从而实现荧光的恢复,因此这种含四嗪的寡聚物是一类十分有前景的荧光成像材料。

发明内容

本发明的目的是提供一种含四嗪寡聚苯撑乙炔化合物的制备方法及其制备方法,本发明提供的四嗪寡聚苯撑乙炔化合物初始状态下处于荧光淬灭的状态,能够在激光照射下发生荧光恢复,在荧光成像和检测等领域具有重要的应用价值。

本发明所提供的式Ⅰ所示寡聚苯撑乙炔化合物,

式I中,R1选自下述基团中的任意一种:-NHBoc、-N+H3CF3COO-和-NHCO(CH2)5P+Ph3Cl-

具体地本发明寡聚苯撑乙炔化合物如式II、式III或式IV所示:

本发明进一步提供了式Ⅰ所示寡聚苯撑乙炔化合物的制备方法,包括如下步骤:

1)式V所示化合物与叠氮化钠经取代反应得到式VI所示化合物;

2)在三苯基膦的催化下,式VI所示化合物进行还原反应,然后与二碳酸二叔丁酯进行反应得到式VII所示化合物;

3)在双(三苯基膦)氯化钯(II)和碘化亚铜的催化下,式VII所示化合物与三甲基硅基乙炔进行取代反应,然后加入碱进行脱除反应,得到式VIII所示化合物;

4)经下述步骤a)或b)或c)得到式Ⅰ所示寡聚苯撑乙炔化合物:

a)在四三苯基膦钯和碘化亚铜的催化下,式VIII所示化合物与3-(4-碘基苯基)-6-甲基-1,2,4,5-四嗪进行取代反应得到R1为-NHBoc时的式Ⅰ所示寡聚苯撑乙炔化合物,即式II所示化合物;

b)在三氟乙酸存在的条件下,步骤a)得到的式Ⅰ所示寡聚苯撑乙炔化合物进行脱除反应得到R1为-N+H3CF3COO-时的式Ⅰ所示寡聚苯撑乙炔化合物,即式III所示化合物;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院化学研究所;中国科学院大学,未经中国科学院化学研究所;中国科学院大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810347835.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top