[发明专利]一种含氚氢同位素气体中氕的去除方法

权利要求书

1.一种含氚氢同位素气体中氕的去除方法，其特征在于，所述的去除方法依次包括以下步骤：

a.将钯硅藻土色谱柱冷却至零摄氏度以下，从钯硅藻土色谱柱前端通入含氚氢同位素原料气体，直至小于等于钯硅藻土色谱柱容量的70%后停止；

b.加热钯硅藻土色谱柱，温度小于等于150℃，收集从钯硅藻土色谱柱后端释放的含氚氢同位素产品气，同时收集从钯硅藻土色谱柱前端释放的含氚氢同位素回流气，直至剩余的含氚氢同位素原料气体达到钯硅藻土色谱柱容量的30%后停止；

c.再将钯硅藻土色谱柱冷却至零摄氏度以下，将收集的含氚氢同位素回流气从钯硅藻土色谱柱前端通入，再将含氚氢同位素原料气体从钯硅藻土色谱柱的前端通入，直至含氚氢同位素回流气和含氚氢同位素原料气体的总量小于等于钯硅藻土色谱柱容量的70%后停止；

d.重复步骤b、c，重复次数达到设定次数后结束循环。

2.根据权利要求1所述的含氚氢同位素气体中氕的去除方法，其特征在于：步骤a所述的从钯硅藻土色谱柱前端通入的含氚氢同位素原料气体的压力低于一个大气压。

3.根据权利要求1所述的含氚氢同位素气体中氕的去除方法，其特征在于：步骤b所述的从钯硅藻土色谱柱的后端释放的含氚氢同位素产品气，和从钯硅藻土色谱柱的前端释放的含氚氢同位素回流气的压力均低于一个大气压。