[发明专利]一种补偿驱动管阈值电压漂移的硅基OLED像素电路及其方法有效
申请号: | 201810351791.0 | 申请日: | 2018-04-19 |
公开(公告)号: | CN108335666B | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 李晨;赖良德;张彤;张晓阳 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | G09G3/3208 | 分类号: | G09G3/3208 |
代理公司: | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人: | 张伟 |
地址: | 210096 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 补偿 驱动 阈值 电压 漂移 oled 像素 电路 及其 方法 | ||
1.一种补偿驱动管阈值电压漂移的硅基OLED像素电路,其特征在于,包括第一金属-氧化物-半导体场效应管、第二金属-氧化物-半导体场效应管、第三金属-氧化物-半导体场效应管、第四金属-氧化物-半导体场效应管、第五金属-氧化物-半导体场效应管、第六金属-氧化物-半导体场效应管、存储电容和有机发光二极管;
其中,所述第一金属-氧化物-半导体场效应管的栅极接入第一扫描信号,其源级接入数据信号,其漏极电性连接于第一节点,其衬底接入地信号;所述第二金属-氧化物-半导体场效应管的栅极接入第二扫描信号,其源级接入参考电压,其漏极电性连接于第一节点,其衬底接入地信号;所述第三金属-氧化物-半导体场效应管的栅极电性连接于第二节点,其源级电性连接于第一节点,其漏极电性连接于第三节点,其衬底接入地信号;所述第四金属-氧化物-半导体场效应管的栅极接入第一扫描信号,其源级电性连接于第二节点,其漏极电性连接于第三节点,其衬底接入地信号;所述第五金属-氧化物-半导体场效应管的栅极接入第二扫描信号,其源级电性连接于第三节点,其漏极电性连接于第四节点,其衬底接入地信号;所述第六金属-氧化物-半导体场效应管的栅极接入第三扫描信号,其源级电性连接于第三节点,其漏极接入电源正电压,其衬底接入地信号;所述存储电容的一端电性连接于第二节点,其另一端接入地信号;所述有机发光二极管的阳极接入电源正电压,其阴极电性连接于第四节点。
2.根据权利要求1所述的一种补偿驱动管阈值电压漂移的硅基OLED像素电路,其特征在于,所述第一扫描信号、第二扫描信号、第三扫描信号均由外部时序控制器提供。
3.根据权利要求1所述的一种补偿驱动管阈值电压漂移的硅基OLED像素电路,其特征在于,所述电源正电压、参考电压、地信号均为直流电压信号。
4.根据权利要求1所述的一种补偿驱动管阈值电压漂移的硅基OLED像素电路,其特征在于,所述第一金属-氧化物-半导体场效应管、第二金属-氧化物-半导体场效应管、第三金属-氧化物-半导体场效应管、第四金属-氧化物-半导体场效应管、第五金属-氧化物-半导体场效应管、第六金属-氧化物-半导体场效应管均为N型金属-氧化物-半导体场效应管。
5.根据权利要求1所述的一种补偿驱动管阈值电压漂移的硅基OLED像素电路,其特征在于,所述第一金属-氧化物-半导体场效应管、第二金属-氧化物-半导体场效应管、第四金属-氧化物-半导体场效应管、第五金属-氧化物-半导体场效应管、第六金属-氧化物-半导体场效应管是开关管,所述第三金属-氧化物-半导体场效应管是驱动管。
6.根据权利要求1所述的一种补偿驱动管阈值电压漂移的硅基OLED像素电路,其特征在于,所述第一扫描信号、第二扫描信号、第三扫描信号相组合先后对应于一数据电压准备阶段、一阈值电压补偿阶段、一发光阶段。
7.根据权利要求6所述的一种补偿驱动管阈值电压漂移的硅基OLED像素电路,其特征在于,在所述数据电压准备阶段,所述第一扫描信号置为高电平,所述第二扫描信号置为低电平,所述第三扫描信号置为高电平;
在所述阈值电压补偿阶段,所述第一扫描信号置为高电平,所述第二扫描信号置为低电平,所述第三扫描信号置为低电平;
在所述发光阶段,所述第一扫描信号置为低电平,所述第二扫描信号置为高电平,所述第三扫描信号置为低电平。
8.一种补偿驱动管阈值电压漂移的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1、提供一如权利要求1-6任一项所述的补偿驱动管阈值电压漂移的硅基OLED像素电路;
步骤2、进入数据电压准备阶段,所述第一扫描信号置为高电平,所述第二扫描信
号置为低电平,所述第三扫描信号置为高电平;
步骤3、进入阈值电压补偿阶段,所述第一扫描信号置为高电平,所述第二扫描信
号置为低电平,所述第三扫描信号置为低电平;
步骤4、进入发光阶段,所述第一扫描信号置为低电平,所述第二扫描信号置为高
电平,所述第三扫描信号置为低电平。
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