[发明专利]光响应缓释的聚合物纳米香料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810357622.8 申请日: 2018-04-19
公开(公告)号: CN108546595B 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 张欣;张田露;卢治国 申请(专利权)人: 中国科学院过程工程研究所
主分类号: C08F293/00 分类号: C08F293/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 喻颖
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 响应 聚合物 纳米 香料 及其 制备 方法
【说明书】:

一种光响应缓释的聚合物纳米香料及其制备方法,所述制备方法包括以下步骤:合成亲水性聚合物修饰的可逆加成‑断裂链转移聚合链转移剂;合成疏水性光敏剂单体;制备光敏两亲嵌段共聚物;光敏两亲嵌段共聚物负载香料。本发明采用光敏两亲嵌段共聚物对香料进行包载并制备了光响应缓释香料,解决了香料的不稳定、易挥发、香料释放过程的不可控问题。

技术领域

本发明属于精细化工技术领域,具体涉及一种光响应缓释的聚合物纳米香料及其制备方法。

背景技术

随着社会文明的进步,人们生活品质的提高,芳香的气味逐渐被人们所推崇。香料已广泛地应用于化妆品蚕丝、皮革和墙纸等领域。但香料主要是挥发性小分子化合物,成分不稳定、易挥发。香料长效性差的重要原因是香料释放过程的不可控,因此,需要精确可控的释放香料来解决现有的技术问题。

发明内容

针对现有技术的不足,本发明的主要目的在于提供一种光响应缓释的聚合物纳米香料及其制备方法,以便解决上述问题的至少之一。

为了实现上述目的,作为本发明的一个方面,提供了一种光响应缓释的聚合物纳米香料的制备方法,包括以下步骤:

(1)用亲水性聚合物修饰可逆加成-断裂链转移聚合链转移剂,得到亲水性聚合物修饰的可逆加成-断裂链转移聚合链转移剂;

(2)将光敏剂单体和甲基丙烯酰氯反应得到疏水性光敏剂单体;

(3)将步骤(1)制得的亲水性聚合物修饰的可逆加成-断裂链转移聚合链转移剂、步骤(2)制得的疏水性光敏剂单体以及偶氮二异丁腈反应得到光敏两亲嵌段共聚物;

(4)将步骤(3)制得的光敏两亲嵌段共聚物负载香料,得到光响应缓释的聚合物纳米香料。

优选地,步骤(1)中,所述可逆加成-断裂链转移聚合链转移剂包括4-氰基-4-(十二烷基硫烷基硫代羰基)硫烷基戊酸。

优选地,步骤(1)中,所述亲水性聚合物为聚乙二醇2000。

优选地,步骤(1)中,反应液用分子量2000的透析袋进行透析,透析液先用N,N-二甲基甲酰胺,再用去离子水。

优选地,步骤(2)中,所述光敏剂单体选自含芘的甲基丙烯酸酯单体、硝基苄醇或香豆素。

优选地,步骤(2)包括:将含芘的甲基丙烯酸酯单体和N,N-二异丙基乙胺溶解于四氢呋喃中,在冰浴条件下,将甲基丙烯酰氯加入到上述四氢呋喃溶液中搅拌,室温反应,反应液除去沉淀后旋转蒸发,在乙醇中重结晶得到疏水性光敏剂单体。

优选地,步骤(3)中,所述亲水性聚合物修饰的可逆加成-断裂链转移聚合链转移剂与所述疏水性光敏剂单体的质量比为1∶5~10。

优选地,步骤(3)中,反应液通过透析除去杂质,其中,透析袋截留分子量为7000,透析液为N,N-二甲基甲酰胺。

优选地,步骤(4)中,所述香料为花香、木香或果香,所述光敏两亲嵌段共聚物与香料的质量比为1~5∶1。

优选地,步骤(4)中,通过透析除去有机溶剂及未包载的香料,其中,透析袋截留分子量为7000,透析液为去离子水。

作为本发明的另一个方面,还提供了一种通过前述的制备方法制备得到的光响应缓释的聚合物纳米香料。

从上述技术方案可知,本发明的响应缓释的聚合物纳米香料及其制备方法具有以下有益效果:

(1)本发明采用光敏两亲嵌段共聚物对香料进行包载并制备了光响应缓释香料,解决了香料的不稳定、易挥发、香料释放过程的不可控问题;

(2)本发明的香料负载率高,香气释放均匀、缓慢留香时间久;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院过程工程研究所,未经中国科学院过程工程研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810357622.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top