[发明专利]一种光学反射率表面处理方法

说明书

一种光学反射率表面处理方法，对产品的处理包括以下步骤：将产品放置到产品固定架后，经由脱脂和水洗工序去除产品表面油污，清洁产品；进行一次阳极氧化处理，一次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；一次阳极氧化后进行水洗，然后用碱性溶液中和，再经由水洗清洁；进行封闭预处理，封闭预处理采用活性剂对产品进行处理；封闭预处理后进行中和和水洗处理；进行二次阳极氧化处理，二次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；二次阳极氧化处理后进行水洗和中和，然后再水洗的处理；进行封闭处理，封闭处理采用氟化镍和活性剂对产品进行处理；封闭处理后进行清洗烘干以及外观检测，然后将产品进行封装，有效降低了产品表面光学反射率。

技术领域

本发明涉及一种表面处理工艺，尤其是一种能够有效降低金属表面光学反射率的光学反射率表面处理方法。

背景技术

在许多产品表面，尤其是对壳体表面质量要求较高的产品，一般都会对产品表面进行加工，大多数采用发黑处理，而目前产品发黑主要采用两种方式；一种为普通产品表面发黑处理，一般是在高温溶液(碱+亚硝酸氨+水)条件下的化学反应，其目的主要是为了防锈，并非外观件和精密产品，另外一种就是阳极发黑处理，一般是在硫酸溶液里发生电解反应，此种方式主要针对外观以及尺寸精度要求高的产品。但是对于一些光学元件的产品而言，不仅仅有以上要求而且还要考虑光学黑元件对光线的吸收和反射情况，尤其是光反射率的大小，直接影响到设备上的光学器件的感光效果，因此，产品表面必须达到一定光学元件要求，如表面反射率的高低要求、颜色的亮暗需求、表面粗糙度的高低要求、以及表面的色差要求等等。

现有的表面处理主要包括普通产品表面常温发黑处理和普通阳极氧化，而普通产品表面常温发黑处理的工艺的缺点是1、导电氧化生成的膜仅仅0.01-0.15微米，耐磨性不好；2、氧化膜较薄，易导电，不能作为绝缘防护产品；3、发黑后的产品，发黑层仅仅吸收少量光线，绝大部分反射掉，反射率较高(反射率在80％以上)。

而普通阳极氧化的缺点是1、普通阳极氧化相对光学黑阳极氧化来讲氧化膜耐磨，耐晒，耐光性能差；2、普通阳极氧化后的产品，发黑层也是吸收部分光线，大部分反射(反射率在60％以上)。

目前并未出现任何发黑加工工艺能够将产品表面的光学反射率降低至一极小的值，一般的发黑表面处理，光学反射率最多也只能降低至60％左右。

发明内容

本发明解决的技术问题是提供一种光学反射率表面处理方法，对产品表面进行加工，提高产品表面耐磨耐腐蚀性能，使产品表面光学反射率降低。

本发明的技术解决方案是：

一种光学反射率表面处理方法，其中，该方法对产品的处理包括以下步骤：

将产品放置到产品固定架后，经由脱脂和水洗工序去除产品表面油污，清洁产品；

进行一次阳极氧化处理，所述一次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；

所述一次阳极氧化后进行水洗，然后用碱性溶液中和，再经由水洗清洁；

进行封闭预处理，所述封闭预处理采用活性剂对产品进行处理；

所述封闭预处理后进行中和和水洗处理；

进行二次阳极氧化处理，所述二次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化；

所述二次阳极氧化处理后进行水洗和中和，然后再水洗的处理；

进行封闭处理，所述封闭处理采用氟化镍和活性剂对产品进行处理；

所述封闭处理后进行清洗烘干以及外观检测，然后将产品进行封装。

由以上说明得知，本发明确实具有如下的优点：