[发明专利]用于制造高垂度透镜阵列的方法以及高垂度透镜阵列在审
| 申请号： | 201810366152.1 | 申请日： | 2018-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN109212634A | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 黄腾德;赖人晖;许书豪 | 申请（专利权）人： | 奇景光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学胶层 透镜阵列 垂度 透镜部件 光学胶材 透镜模腔 模具 喷射 硬化 曝光 透明基板 基底 去除 制造 透明 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于制造高垂度透镜阵列的方法，其特征在于，包含有：
个别地将一光学胶材喷射到一模具的多个透镜模腔中，以独立地形成多个透镜部件；
对该些透镜部件曝光以使在该些透镜模腔中的光学胶材硬化；
在该些透镜部件上喷射一光学胶层；
在该光学胶层上形成一透明基底；
对该光学胶层曝光以使该光学胶层硬化并结合该透明基板、该光学胶层与该些透镜部件；以及
去除该模具以形成该高垂度透镜阵列。
2.如权利要求1所述的方法，其中该些透镜模腔具有超过300微米的深度。
3.如权利要求1所述的方法，其中该光学胶材为一紫外线胶材。
4.如权利要求1所述的方法，其中该光学胶层为一紫外线胶材。
5.如权利要求1所述的方法，其中该透明基底为一玻璃基底。
6.一种高垂度透镜阵列，其特征在于，包含有：
透明基底；
光学胶层，形成于该透明基板上；以及
多个透镜，形成于该光学胶层上，具有一超过300微米的高度。
7.如权利要求6所述的高垂度透镜阵列，其中该光学胶材为一紫外线胶材。
8.如权利要求6所述的高垂度透镜阵列，其中该光学胶层为一紫外线胶材。
9.如权利要求6所述的高垂度透镜阵列，其中该透明基底为一玻璃基底。
10.如权利要求6所述的高垂度透镜阵列，是用一半导体制作工艺来制造。
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