[发明专利]一种掩膜板及其制作方法

说明书

本申请提供一种掩膜板及其制作方法，掩膜板包括至少一个开口以及围绕设置在开口周缘的遮挡区，掩膜板包括贯穿相对设置的第一表面和第二表面的开口，遮挡区的第一表面上设置有第一凹槽，第一凹槽与开口相连。即遮挡区朝向开口的侧边上设置有开放性的第一凹槽，在掩膜板使用过程中，第一凹槽容纳衬底上的颗粒物，使得蒸镀时掩膜板与衬底之间的贴合紧密，避免因颗粒物的存在造成的成膜不均，引起成膜失败问题。而且，颗粒物在重力作用下，能够脱离第一凹槽，避免第一凹槽里容纳较多颗粒物，造成掩膜板与衬底之间出现空隙。同时，第一凹槽的存在还减轻了掩膜板遮挡区实体板材的部分重量，同样能够改善蒸镀过程中形成的材料蒸镀边缘模糊的问题。

技术领域

本发明涉及半导体制作技术领域，尤其涉及一种掩膜板及其制作方法。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示技术是现有技术中常见的显示技术，广泛应用于手机、数码摄像机、平板电脑等电子设备上。尤其，随着柔性显示装置和曲面屏的发展，OLED显示技术的地位更加重要。

OLED显示装置制作过程中，需要在衬底上形成阴极层、发光层和阳极层等多层金属、非金属材料，常用的工艺，请参考图1和图2，其中，图1为现有技术中提供的蒸镀工艺制作OLED显示区的工艺图，图2为掩膜板俯视示意图，图1中所示的掩膜板为图2中沿AA’的剖面结构图；在衬底01上设置掩膜板02，掩膜板02的开口021对应待沉积物质的区域，围绕开口021周缘设置有遮挡区022；采用CVD(ChemicalVapor Deposition，化学气相淀积)工艺将金属或有机物蒸镀到位于CVD工艺腔体上方的衬底上，其中，掩膜板开口对应的衬底01上的区域沉积形成阴极和阳极的金属物，掩膜板遮挡的衬底部分不形成上述材料，从而形成多个相互分离的OLED显示装置中的有效显示区04，所述有效显示区即为OLED显示装置通电后显示画面的区域。需要说明的是，图1中03区域为阴极或阳极压盖有效区。

但是，现有技术中的掩膜板在蒸镀过程中，容易造成CVD成膜失败以及蒸镀边界不清晰的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种掩膜板及其制作方法，以解决现有技术中掩膜板在蒸镀过程中，容易造成CVD成膜失败以及蒸镀边界不清晰的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种掩膜板，包括：

至少一个开口；

围绕设置在所述开口周缘的遮挡区；

所述掩膜板包括第一表面和与之相对的第二表面，所述开口贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述遮挡区的所述第一表面上设置有第一凹槽，所述第一凹槽与所述开口相连。本发明还提供一种掩膜板制作方法，用于制作上面所述的掩膜板，所述掩膜板制作方法包括：

提供掩膜板，所述掩膜板包括第一表面和与之相对的第二表面；

在所述掩膜板上形成至少一个贯穿所述第一表面和所述第二表面的开口，围绕所述开口周缘的掩膜板为遮挡区；

在所述遮挡区的第一表面形成第一凹槽，所述第一凹槽与所述开口相连。

经由上述的技术方案可知，本发明提供的掩膜板，包括至少一个开口以及围绕设置在所述开口周缘的遮挡区，所述掩膜板包括第一表面和与之相对的第二表面，所述开口贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述遮挡区的所述第一表面上设置有第一凹槽，所述第一凹槽与所述开口相连。也即，遮挡区朝向开口的侧边上设置有开放性的第一凹槽，在掩膜板使用过程中，所述第一凹槽能够容纳衬底上的颗粒物，使得蒸镀时掩膜板与衬底之间的贴合更加紧密，避免由于颗粒物的存在造成颗粒物所在位置产生的成膜不均，引起的成膜失败问题。而且，所述第一凹槽为开放性凹槽，当第一凹槽内沉积较多颗粒物时，颗粒物在重力作用下，能够脱离第一凹槽，避免第一凹槽内容纳较多颗粒物，造成掩膜板与衬底之间出现空隙。