[发明专利]一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置

权利要求书

1.一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，包括射频机构、沉积箱(1)以及透波板(9)，沉积箱(1)两端分别开设有进气口(2)和出气口(3)，其特征在于：所述沉积箱(1)内腔中设置有进气管(4)、出气管(5)和加热装置(10)，所述进气管(4)连接于进气口(2)上，所述出气管(5)连接于出气口(3)上；

所述进气管(4)和出气管(5)之间设置有均流管(8)，所述均流管(8)两侧分别设置有射频机构，所述射频机构包括平行设置的衬底(6)、射频板(7)以及透波板(9)，所述透波板(9)设置于衬底(6)和射频板(7)之间，且透波板(9)活动连接于均流管(8)靠近射频板(7)一侧，所述衬底(6)与透波板(9)之间设置有间距1mm-10mm。

2.根据权利要求1所述的一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，其特征在于：所述加热装置包括导热板(10)和电热丝(12)，所述导热板(10)中开设有安装孔(11)，所述电热丝(12)固定于安装孔(11)中，衬底(6)和射频板(7)均通过导热板(10)固定于沉积箱(1)内壁上。

3.根据权利要求1所述的一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，其特征在于：所述进气管(4)、出气管(5)以及均流管(8)上均连接有吸波板(13)，所述吸波板(13)设置于靠近射频板(7)一侧。

4.根据权利要求1所述的一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，其特征在于：所述进气口(2)远离进气管(4)一侧连接有气体加热器(14)。

5.根据权利要求1所述的一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，其特征在于：所述沉积箱(1)上开设有抽气孔(15)，所述抽气孔(15)上连接有真空机(16)。

6.根据权利要求1所述的一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，其特征在于：所述进气管(4)靠近进气口(2)一端开设有进气孔(41)，所述进气孔(41)中设置有泄压阀(42)，所述进气孔(41)一端连接有环形腔(43)，所述环形腔(43)远离进气孔(41)一侧开设有储存腔(45)，所述环形腔(43)通过连通孔(44)连接于储存腔(45)上，且储存腔(45)远离环形腔(43)一侧连接有若干分流孔(46)。

7.根据权利要求1所述的一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，其特征在于：所述均流管(8)对应分流孔(46)开设有若干均流孔(81)，且每个所述均流孔(81)中均设置有均流排风扇(82)。

8.根据权利要求1所述的一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，其特征在于：所述均流管(8)通过固定柱(8)固定于沉积箱(1)上，且固定柱(8)上设置有灯泡。

9.根据权利要求1所述的一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，其特征在于：所述出气管(5)中开设有出气孔(51)，所述出气孔(51)远离出气口(3)一端设置为喇叭形。

10.根据权利要求9所述的一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，其特征在于：所述出气孔(51)靠近出气口(3)一侧设置有出气排风扇(511)。