[发明专利]一种键合压板、键合方法及封装体在审
申请号: | 201810377248.8 | 申请日: | 2018-04-25 |
公开(公告)号: | CN110400758A | 公开(公告)日: | 2019-11-01 |
发明(设计)人: | 周正勇 | 申请(专利权)人: | 无锡华润安盛科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
地址: | 214028 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 键合 键合工艺 第一元件 引脚 容置孔 压板 收纳 第二元件 电气连接 封装体 按压 焊接不良 器件主体 抵压部 碰触 翘曲 平整 损伤 安置 暴露 申请 | ||
1.一种键合压板(30),其特征在于,所述键合压板包括:
键合孔(301),贯穿所述键合压板的上下表面;
容置孔(302);
所述容置孔与所述键合孔之间设置有引脚抵压部(303),所述引脚抵压部(303)将所述容置孔与所述键合孔隔离。
2.如权利要求1所述的键合压板,其特征在于,所述引脚抵压部(303)呈板状。
3.如权利要求2所述的键合压板,其特征在于,所述引脚抵压部(303)倾斜设置。
4.如权利要求1所述的键合压板,其特征在于,所述容置孔(302)包括顶壁(3021)和侧壁,所述容置孔向下开口。
5.如权利要求1所述的键合压板,其特征在于,所述容置孔(302)贯穿所述压板的上下表面。
6.如权利要求1所述的键合压板,其特征在于,所述键合孔(301)为由下向上内径逐渐增大的通孔。
7.一种键合方法,其特征在于,包括:
提供第一元件(110)、第二元件(100)和如权利要求1至6中任一所述的键合压板(30),在所述第一元件与所述第二元件之间设置有引脚(15或16),所述引脚包括键合部(1501、1601)以及自所述键合部向所述第一元件延伸的连接部(151、161),第二元件(100)上设置有触点(101、102);
将所述键合压板置于所述第一元件和第二元件的上方,并使:所述第一元件(110)容置在容置孔(302)内,所述引脚抵压部(303)抵压引脚的所述连接部(151、161),所述引脚的键合部(1501、1601)和所述第二元件的触点(101、102)通过所述键合孔(301)暴露;
透过所述键合孔(301)将所述键合部(1501、1601)与所述触点(101、102)键合。
8.如权利要求7所述的键合方法,其特征在于,所述第一元件(110)为晶振。
9.如权利要求8所述的键合方法,其特征在于,在所述第一元件(110)容置在容置孔内时,所述第一元件(110)和所述容置孔的顶壁(3021)之间存在间距。
10.一种封装体,其特征在于,所述封装体是利用如权利要求7-9中任一权利要求所述的键合方法制成的。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造