[发明专利]一种OLED基板及其制备方法

权利要求书

1.一种OLED基板，其特征在于，包括：

基板；

设置于所述基板上且位于每个子像素区域的第一透明电极；

设置于所述基板上的像素界定层，所述像素界定层包括第一开口和第二开口；所述第一开口和所述第二开口位于不同的子像素区域；

设置于所述第一开口中的第一有机材料功能层；

设置于所述像素界定层上以及所有子像素区域的不透明电极层；其中，在所述像素界定层的作用下，所述不透明电极层分成第一部分和第二部分，第一部分和第二部分断开，第一部分位于所述第二开口中；

至少设置于所述第二开口中的第二有机材料功能层；

设置于所述像素界定层上以及所有子像素区域的第二透明电极层，所述第二透明电极层电连接为一体。

2.根据权利要求1所述的OLED基板，其特征在于，所述第一开口和所述第二开口的形状均呈梯台；

所述第一开口的上表面面积大于其下表面面积；所述第二开口的上表面面积小于其下表面面积；上表面远离所述基板，下表面靠近所述基板。

3.根据权利要求1所述的OLED基板，其特征在于，所述第二开口包括层叠的第一子开口和第二子开口，所述第一子开口的上表面与所述第二子开口的下表面共用；

所述第一子开口和所述第二子开口均呈梯台，且所述第一子开口的上表面面积大于其下表面面积，所述第二子开口的上表面面积小于其下表面面积。

4.根据权利要求3所述的OLED基板，其特征在于，所述第一开口包括第三子开口和第四子开口，所述第三子开口的上表面为所述第四子开口的下表面的一部分；所述第三子开口和所述第四子开口均呈梯台，且所述第三子开口的上表面面积大于其下表面面积，所述第四子开口的上表面面积小于其下表面面积。

5.根据权利要求3所述的OLED基板，其特征在于，所述像素界定层为至少两层结构。

6.根据权利要求1所述的OLED基板，其特征在于，所述第二透明电极层厚度在50～10000nm范围内。

7.根据权利要求1-6任一项所述的OLED基板，其特征在于，所述基板包括衬底、设置于所述衬底上的薄膜晶体管以及平坦层。

8.一种OLED基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基板上的每个子像素区域形成第一透明电极；

形成像素界定层，所述像素界定层包括第一开口和第二开口；所述第一开口和所述第二开口位于不同的子像素区域；

在所述第一开口中形成第一有机材料功能层；

在所述像素界定层上以及所有子像素区域形成不透明电极层；其中，在所述像素界定层的作用下，所述不透明电极层分成第一部分和第二部分，第一部分和第二部分断开，第一部分位于所述第二开口中；

至少在所述第二开口中形成第二有机材料功能层；

在所述像素界定层上以及所有子像素区域形成第二透明电极层，所述第二透明电极层电连接为一体。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，

通过喷墨打印方式或利用精密掩模板的热蒸镀方式形成所述第一有机材料功能层、所述第二有机材料功能层；

通过溅射镀膜方式或利用开放掩模板的热蒸镀方式形成所述不透明电极层、所述第二透明电极层。

10.一种如权利要求1-7任一项所述的OLED基板的控制方法，其特征在于，包括：

向第一透明电极施加第一电压；

向不透明电极层的第二部分和第二透明电极层施加第二电压。