[发明专利]一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统

权利要求书

1.一种光学玻璃元件的数控加工方法，其特征在于，包括：

根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数，计算驻留时间函数，根据所述驻留时间函数确定所述光学玻璃元件的第一加工路径；根据所述第一加工路径对所述光学玻璃元件进行抛光加工，直至抛光后的光学玻璃元件的波前PV值不大于预设PV阈值；

根据匀滑拟合面形误差数据与所述去除函数，计算匀滑驻留时间函数，根据所述匀滑驻留时间函数确定所述光学玻璃元件的第二加工路径；根据所述第二加工路径对抛光后的光学玻璃元件进行二次抛光加工，直至二次抛光后的光学玻璃元件的GRMS值不大于预设GRMS阈值；

采用匀滑抛光工艺，确定所述光学玻璃元件的第三伪随机式加工路径，根据所述第三伪随机式加工路径对二次抛光后的光学玻璃元件进行三次抛光加工，直至三次抛光后的光学玻璃元件的波前PSD1 RMS值不大于预设PSD1阈值、面形PSD2 RMS值不大于预设PSD2阈值和表面粗糙度RMS值不大于预设粗糙度阈值；

其中，所述匀滑拟合面形误差数据为原始面形数据经过匀滑拟合算法处理后得到的目标收敛面形数据。

2.根据权利要求1所述的光学玻璃元件的数控加工方法，其特征在于，所述光学玻璃元件为大口径平面反射镜。

3.根据权利要求2所述的光学玻璃元件的数控加工方法，其特征在于，所述PV阈值为λ/3(λ＝632.8nm)，所述GRMS阈值为7.7nm/cm，所述PSD1阈值为1.8nm，所述PSD2阈值为1.1nm，所述粗糙度阈值为0.4nm。

4.根据权利要求2所述的光学玻璃元件的数控加工方法，其特征在于，所述根据所述第一加工路径对所述光学玻璃元件进行抛光加工，直至抛光后的光学玻璃元件的波前PV值不大于预设PV阈值包括：

根据所述第一加工路径，利用数控抛光机床加工所述大口径平面反射镜的抛光表面；

根据平面干涉仪采集抛光后的大口径平面反射镜的反射波前信息，得到所述大口径平面反射镜的反射波前PV值；

判断所述反射波前PV值是否不大于预设PV阈值；

若否，则继续根据所述第一加工路径对所述大口径平面反射镜进行抛光加工；若是，则执行后续操作。

5.根据权利要求1所述的光学玻璃元件的数控加工方法，其特征在于，所述根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数，计算驻留时间函数为：

对所述光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数进行反卷积计算，得到驻留时间函数；

所述根据匀滑拟合面形误差数据与所述去除函数，计算匀滑驻留时间函数为：

对匀滑拟合面形误差数据与所述去除函数进行反卷积计算，得到匀滑驻留时间函数。

6.根据权利要求1至5任意一项所述的光学玻璃元件的数控加工方法，其特征在于，所述第一加工路径为光栅式加工路径或伪随机式加工路径；所述第二加工路径为光栅式加工路径或伪随机式加工路径。

7.根据权利要求6所述的光学玻璃元件的数控加工方法，其特征在于，所述光栅式加工路径的各条路径横向平行分布或各条路径纵向平行分布。

8.根据权利要求6所述的光学玻璃元件的数控加工方法，其特征在于，所述伪随机式加工路径为由当前加工路径和下一条加工路径相连且夹角呈60°的多条均匀分布路径构成，各加工路径互不相交。