[发明专利]一种介电常数可控的钛膜的制备方法及其应用有效
| 申请号： | 201810379391.0 | 申请日： | 2018-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN108611602B | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 胡海峰;金梅花;贺涛 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹;吴欢燕 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 介电常数 可控 制备 方法 及其 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种介电常数可控的钛膜的制备方法在制备双曲超材料中的应用，其特征在于，包括：在基体材料表面根据所述制备方法，制备介电常数实部正负交替的多层钛膜；
所述制备方法包括：基于目标钛膜的预期介电常数实部，根据已知钛膜的介电常数实部随入射光波长的变化曲线，选定制备所述目标钛膜的气体含氧量，进行制备，所述已知钛膜为在0～0.2V％范围内调整气体含氧量制备获得的多个钛膜。
2.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述气体含氧量的调整范围为0.01V％～0.2V％。
3.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述已知钛膜的介电常数实部随入射光波长的变化曲线，通过采集并拟合所述已知钛膜的光谱椭偏数据获得。
4.根据权利要求1～3任一项所述的应用，其特征在于，制备钛膜时，镀膜室中气压为3～15mTorr。
5.根据权利要求1～3任一项所述的应用，其特征在于，制备钛膜时，镀膜功率为50～150W。
6.根据权利要求1～3任一项所述的应用，其特征在于，制备钛膜时，镀膜时间为5～30min。
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