[发明专利]一种Ⅱ-型核壳结构量子点及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201810385108.5 申请日: 2018-04-26
公开(公告)号: CN108666141B 公开(公告)日: 2019-11-29
发明(设计)人: 赵高凌;卢王威;占丰;钱怡潇;韩高荣 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01G9/20 分类号: H01G9/20;H01G9/042
代理公司: 33224 杭州天勤知识产权代理有限公司 代理人: 朱朦琪<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 310013 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 核壳结构 量子点 制备 量子点敏化 光电极 壳层 量子点敏化太阳能电池 制备方法和应用 光电转化效率 光生电子 注入效率 光捕获 摩尔比 核层 应用
【权利要求书】:

1.一种Ⅱ-型核壳结构量子点,包括壳层与核层,其特征在于,组成为CdZnTe@CdS,所述元素Cd与元素Zn的摩尔比为1.8:1,核层CdZnTe的粒径为3.0±0.1nm,壳层CdS的厚度为0.9±0.1nm。

2.一种根据权利要求1所述的Ⅱ-型核壳结构量子点的制备方法,其特征在于,包括:

(1)采用水相法制备CdZnTe多元量子点;

(2)通过连续离子层吸附与反应法在所述CdZnTe多元量子点表面包覆CdS壳层。

3.一种量子点敏化光电极,包括宽带隙半导体薄膜和沉积在所述薄膜上的量子点敏化剂,其特征在于,采用如权利要求1所述的Ⅱ-型核壳结构量子点作为量子点敏化剂。

4.一种根据权利要求3所述的量子点敏化光电极的制备方法,其特征在于,包括:

步骤一、在透明导电基材表面制备宽带隙半导体薄膜,再采用连接剂对所述宽带隙半导体薄膜进行处理;

步骤二、采用水相法制备CdZnTe多元量子点,再采用化学浴法将所述CdZnTe多元量子点锚定在步骤一处理后的宽带隙半导体薄膜表面;

步骤三、通过连续离子层吸附与反应法在所述CdZnTe多元量子点表面包覆CdS壳层,制备得到量子点敏化光电极。

5.根据权利要求4所述的量子点敏化光电极的制备方法,其特征在于,步骤一中,所述宽带隙半导体薄膜选自二氧化钛薄膜、氧化锌薄膜、二氧化锡薄膜和/或三氧化钨薄膜。

6.根据权利要求4所述的量子点敏化光电极的制备方法,其特征在于,步骤一中,所述连接剂为双官能团有机小分子。

7.根据权利要求6所述的量子点敏化光电极的制备方法,其特征在于,所述双官能团有机小分子选自巯基乙酸、巯基丙酸、L-半胱氨酸中的至少一种。

8.一种量子点敏化太阳能电池,其特征在于,包括如权利要求3所述的量子点敏化光电极。

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