[发明专利]以分隔墙分隔汽态及液态工作流体通道的回路式均温装置在审
申请号: | 201810387175.0 | 申请日: | 2018-04-26 |
公开(公告)号: | CN110418543A | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 曾惓祺;廖文靖;崔明全 | 申请(专利权)人: | 泰硕电子股份有限公司 |
主分类号: | H05K7/20 | 分类号: | H05K7/20;F28D15/04 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;王馨仪 |
地址: | 中国台湾台北*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 开槽 分隔墙 均温装置 延伸槽 液态工作流体 封闭空间 连接底座 毛细结构 毛细通道 底座 分隔 汽态 上盖 产品寿命 工作流体 工作液体 气流通道 延伸通道 填充 延伸 流动 | ||
1.一种以分隔墙分隔汽态及液态工作流体通道的回路式均温装置,其特征在于,其内部的一封闭空间是真空状态且填充有工作液体,该回路式均温装置包括:
一底座,包括一第一开槽、一第二开槽及一延伸槽,该延伸槽自该第一开槽延伸至该第二开槽,该延伸槽有一第一端及一第二端,该延伸槽的第一端对应该第一开槽,该延伸槽的第二端对应该第二开槽;
一分隔墙,连接该底座且自该延伸槽的第一端延伸至该延伸槽的第二端,以使该延伸槽形成独立的一毛细通道及一气流通道,该毛细通道及该气流通道连通该第一开槽及该第二开槽;
一上盖,连接该底座及该分隔墙,该封闭空间包括该第一开槽、该第二开槽及该延伸槽;及
一毛细结构,位于该第一开槽、该第二开槽及该延伸槽的毛细通道内。
2.根据权利要求1所述的回路式均温装置,其特征在于,该毛细通道及该气流通道占用该延伸槽空间是平均分配。
3.根据权利要求1所述的回路式均温装置,其特征在于,该毛细通道及该气流通道占用该延伸槽空间是不平均分配。
4.根据权利要求3所述的回路式均温装置,其特征在于,该毛细通道占用空间小于该气流通道占用空间。
5.根据权利要求3所述的回路式均温装置,其特征在于,该毛细通道占用空间大于该气流通道占用空间。
6.根据权利要求1所述的回路式均温装置,其特征在于,该底座还包括一毛细槽及一气槽,分别连通该第一开槽及该第二开槽,该封闭空间还包括该毛细槽及该气槽,该毛细结构还形成于该毛细槽内。
7.根据权利要求1所述的回路式均温装置,其特征在于,该毛细结构包括一第一毛细层、一第二毛细层及一第三毛细层,该第一毛细层烧结连接该底座,该第二毛细层形成于该上盖,且面对该第一开槽,该第三毛细层形成于该上盖,且面对该第二开槽,该第一毛细层与该第二毛细层之间及该第一毛细层与该第三毛细层之间分别有一中空腔室,且连通该气流通道。
8.根据权利要求7所述的回路式均温装置,其特征在于,该第一毛细层有多个支撑部,该多个支撑部是间隔排列,且位在该中空腔室内,并支撑该底座及该上盖。
9.根据权利要求1所述的回路式均温装置,其特征在于,该上盖的轮廓与该底座的轮廓相匹配。
10.根据权利要求1所述的回路式均温装置,其特征在于,该分隔墙自该底座向上延伸至该上盖。
11.根据权利要求1所述的回路式均温装置,其特征在于,该第一开槽、该第二开槽及该延伸槽的槽底是位在相同水平面。
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