[发明专利]空间改性装置

权利要求书

1.一种空间改性装置，具备：

处理槽，通过使从导入部导入的液体绕着中心轴回旋而产生回旋流，从而在所述液体的所述回旋流的回旋中心附近产生气相，并且具有排出部，该排出部使从所述导入部导入的所述液体在该排出部与所述导入部之间回旋而产生所述回旋流之后作为改性液排出，该处理槽不具有气体导入口；

第1电极，至少一部分配置在所述处理槽内而与所述处理槽内的所述液体接触；

第2电极，配置为与所述处理槽内的所述液体接触；

电源，在所述第1电极与所述第2电极之间施加电压，使所述气相中产生等离子体，从而在所述改性液中生成改性成分；

贮存槽，贮存从所述处理槽的所述排出部排出的所述改性液；

液体供给部，将作为所述改性液排出并保持在所述贮存槽中的贮存水从所述处理槽的所述导入部再次导入至所述处理槽内，从而能够使所述贮存水在所述处理槽与所述贮存槽之间循环；

喷嘴，与所述贮存槽的贮存水排出部连接，将所述贮存槽的所述贮存水呈雾状排出至处理对象空间；和

供给泵，从所述贮存槽向所述喷嘴供给所述贮存水，

从所述喷嘴喷雾或者喷洒所述贮存水。

2.根据权利要求1所述的空间改性装置，其中，

所述贮存槽配置在所述喷嘴的下方，并且上部被开口，

将从所述喷嘴喷雾或者喷洒出的所述贮存水回收至所述贮存槽，使回收至所述贮存槽的液体与所述贮存槽的所述改性液接触。

3.根据权利要求1所述的空间改性装置，其中，

所述第1电极配置为与在所述液体的所述回旋流的所述回旋中心附近产生的所述气相接触、或位于所述气相的近旁。

4.根据权利要求1所述的空间改性装置，其中，

所述处理槽具有使从所述导入部供给的所述液体回旋而产生所述回旋流的圆筒状或圆锥台形状的第1内壁，

所述第1电极配置在所述第1内壁的中心轴上或中心轴近旁。

5.根据权利要求4所述的空间改性装置，其中，

所述第1电极配置在所述中心轴或所述中心轴近旁的一个端部侧，

所述第2电极配置在所述中心轴或所述中心轴近旁的另一个端部侧，

所述导入部配置在所述中心轴的所述一个端部侧，

所述排出部配置在所述中心轴的所述另一个端部侧。

6.根据权利要求5所述的空间改性装置，其中，

所述第2电极是板状的电极，配置为包围所述第1内壁的所述另一个端部侧的所述第1内壁的所述中心轴的周围的至少一部分。

7.根据权利要求5所述的空间改性装置，其中，

所述第2电极配置在所述第1内壁的所述另一个端部侧的所述第1内壁的所述中心轴的侧方。

8.根据权利要求5所述的空间改性装置，其中，

所述第2电极是筒状的电极，配置为包围所述第1内壁的所述另一个端部侧的所述第1内壁的所述中心轴的至少一部分。

9.一种空间改性装置，具备：

处理槽，通过使从导入部导入的液体绕着中心轴回旋而产生回旋流，从而在所述液体的所述回旋流的回旋中心附近产生气相，并且具有排出部，该排出部使从所述导入部导入的所述液体在该排出部与所述导入部之间回旋而产生所述回旋流之后作为改性液排出，该处理槽不具有气体导入口；

第1电极，至少一部分配置在所述处理槽内而与所述处理槽内的所述液体接触；

第2电极，配置为与所述处理槽内的所述液体接触；

电源，在所述第1电极与所述第2电极之间施加电压，使所述气相中产生等离子体，从而在所述改性液中生成改性成分；

贮存槽，贮存从所述处理槽的所述排出部排出的所述改性液；

液体供给部，将作为所述改性液排出并保持在所述贮存槽中的贮存水从所述处理槽的所述导入部再次导入至所述处理槽内，从而能够使所述贮存水在所述处理槽与所述贮存槽之间循环；

喷嘴，在处理对象空间内配置于所述贮存槽的上方，朝向所述贮存槽的上部开口呈雾状排出液体；和

供给泵，向所述喷嘴供给所述液体，

将从所述供给泵向所述喷嘴供给的所述液体从所述喷嘴喷雾或者喷洒之后，回收至所述贮存槽的所述上部开口内，然后所述液体和所述改性液在所述贮存槽内接触。