[发明专利]一种陶瓷基材用低磨损PVD涂层体系及其制备的制品有效
| 申请号： | 201810390936.8 | 申请日： | 2018-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN108484226B | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 廖生;杜旭颖;华秀菊;黄李平;王大洪;阮炯城;崔清 | 申请（专利权）人： | 深圳市正和忠信股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C04B41/89 |
| 代理公司： | 44486 深圳智趣知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 崔艳峥 |
| 地址： | 518100 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 陶瓷基材 低磨损 制备 涂层体系 弹性模量 物理气相沉积 表面粗糙度 高弹性模量 高温稳定性 摩擦性能 使用寿命 维氏硬度 最大磨损 高耐磨 耐磨损 基材 涂覆 | ||
【权利要求书】：
1.一种低磨损PVD涂层体系在陶瓷基材中的应用，其特征在于，所述涂层体系为：
一个涂层A：TiaX(1-a)CrNsOt；
其中X为Si或Al，0.8≤a＜1，r+s+t＝1，并且涂层的厚度为0.5μm-2μm；
和至少一个涂层B：MoN，并且涂层的厚度为0.1μm-0.2μm；
采用物理气相沉积(PVD)工艺将上述涂层A和涂层B先后涂覆于基材上。
2.根据权利要求1所述的PVD涂层体系在陶瓷基材中的应用，其特征在于，所述涂层A为TiAlN或TiSiN的涂层。
3.根据权利要求1所述的PVD涂层体系在陶瓷基材中的应用，其特征在于，所述涂层A的厚度为1.0-2.0μm。
4.一种陶瓷制品，包含陶瓷基体和涂覆于基体上的涂层，其特征在于：所述涂层体系为：
一个涂层A：TiaX(1-a)CrNsOt；
其中X为Si或Al，0.8≤a＜1，r+s+t＝1，并且涂层的厚度为0.5μm-2μm；
和至少一个涂层B：MoN，并且涂层的厚度为0.1μm-0.2μm；
采用物理气相沉积(PVD)工艺将上述涂层A和涂层B先后涂覆于基材上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市正和忠信股份有限公司，未经深圳市正和忠信股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810390936.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种蓄能型夜光釉玻璃陶瓷材料的应用
- 下一篇：一种有机肥料生产设备
- 同类专利
- 专利分类
