[发明专利]一种氧化铜纳米线的超疏水复合结构制备方法

权利要求书

1.一种氧化铜纳米线的超疏水复合结构制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1)对铜片表面进行清洁处理；

2)利用激光对铜片进行表面织构，在铜片表面形成微结构；

3)对步骤2)表面织构后的铜片进行清洁处理；

4)将清洁处理后的铜片加热，再将铜片冷却至室温，在铜片表面得到微纳复合结构氧化铜纳米线；

5)采用低表面能材料对微纳复合结构氧化铜纳米线进行修饰，晾干后即得到氧化铜纳米线微纳复合结构的超疏水表面。

2.如权利要求1所述一种氧化铜纳米线的超疏水复合结构制备方法，其特征在于在步骤1)中，所述对铜片表面进行清洁处理的具体方法为：将铜片样品放置于盛有去离子水的超声波清洗仪中进行清洗，将清洗干净的铜片样品放入稀盐酸中浸泡后取出，再用无水乙醇清洗，并用压缩氮气吹干，得到洁净的铜片样品。

3.如权利要求1所述一种氧化铜纳米线的超疏水复合结构制备方法，其特征在于在步骤2)中，所述利用激光对铜片进行表面织构，在铜片表面形成微结构的具体方法为：利用激光表面织构技术，调节好光纤激光器相关加工参数后对洁净铜片表面进行激光扫描处理，在铜片表面加工特殊的二维结构，实现可控阵列微米结构。

4.如权利要求1所述一种氧化铜纳米线的超疏水复合结构制备方法，其特征在于在步骤3)中，所述对步骤2)表面织构后的铜片进行清洁处理的具体方法为：将步骤2)表面织构后的铜片于乙醇中超声清洗，随后用去离子水冲洗后用压缩氮气吹干。

5.如权利要求1所述一种氧化铜纳米线的超疏水复合结构制备方法，其特征在于在步骤4)中，所述将清洁处理后的铜片加热，再将铜片冷却至室温，在铜片表面得到微纳复合结构氧化铜纳米线具体方法为：使用热氧化法生长氧化铜纳米线，在铜片表面提供一个微纳复合结构；以铜片表面特殊的二维结构为衬底，减小氧化铜纳米线膜的热应力，使氧化铜纳米线膜不容易开裂或剥落。

6.如权利要求1所述一种氧化铜纳米线的超疏水复合结构制备方法，其特征在于在步骤4)中，所述加热是在加热板上进行开放性加热，加热的温度为300～600℃，加热的时间为3～5h。