[发明专利]阵列基板及显示面板有效

专利信息
申请号: 201810399220.4 申请日: 2018-04-28
公开(公告)号: CN108761887B 公开(公告)日: 2020-03-27
发明(设计)人: 曹志浩 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1368;G02F1/1362
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 阵列 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括:

第一区域,所述第一区域与显示面板的显示区域对应;

第二区域,设置于所述第一区域的外侧,所述第二区域与所述显示面板的非显示区域对应,包括:

基板、形成于所述基板之上的至少一无机层以及形成于所述无机层上的导线、以及形成于所述基板与所述导线之间的至少一金属图案;

所述阵列基板还包括第一切割边界和第二切割边界,所述第一切割边界和所述导线交叉,所述第一切割边界和所述第二切割边界与所述第一区域的第一边界互相平行,所述第一切割边界与所述第一边界的间距小于所述第二切割边界与所述第一边界的间距;

所述金属图案形成于所述第一切割边界与所述导线交叉点的下方,所述金属图案或部分所述金属图案被所述导线遮挡;

所述金属图案包括第一金属图案、第二金属图案或第三金属图案中一种或多种的组合,所述第一金属图案与所述第一区域中的遮光层对应,所述第二金属图案与所述第一区域中的栅极层对应,所述第三金属图案与所述第一区域中的源漏极对应。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述无机层包括形成于所述基板上的缓冲层、介质层以及平坦层,所述基板与所述无机层或相邻两所述无机层之间包括至少一金属图案。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述第一金属图案形成于所述基板之上,位于所述基板与所述缓冲层之间;

所述第二金属图案形成于所述缓冲层上,位于所述缓冲层与所述介质层之间;

所述第三金属图案形成于所述介质层上,位于所述介质层与所述平坦层之间。

4.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述第一金属图案和所述遮光层通过第一构图工艺形成,所述第二金属图案和所述栅极通过第二构图工艺形成,所述第三金属图案和所述源漏极通过第三构图工艺形成。

5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括第一绝缘层和第二绝缘层;

所述第一绝缘层形成于所述无机层上,所述导线形成于所述第一绝缘层上,所述第二绝缘层形成于所述导线上。

6.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括如权利要求1~5任一项所述的阵列基板。

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