[发明专利]一种减反射冷裱膜及其制备方法

权利要求书

1.一种减反射冷裱膜，其特征在于，自上而下依次包括：减反射层、透明PET膜层、透明胶层和白硅纸层；其中，所述减反射层为致密氧化铪层和/或多孔氧化铪层，且所述致密氧化铪层的厚度为130-140nm；所述多孔氧化铪层的厚度为88-92nm，且孔隙率为76％-80％。

2.如权利要求1所述减反射冷裱膜，其特征在于，所述致密氧化铪层的厚度为133-137nm；所述多孔氧化铪层的厚度为89-91nm，且孔隙率为77％-79％。

3.如权利要求1或2所述减反射冷裱膜，其特征在于，所述致密氧化铪层的厚度为135nm；所述多孔氧化铪层的厚度为90nm，且孔隙率为78％。

4.如权利要求1所述减反射冷裱膜，其特征在于，所述透明胶层按照质量百分比计，包括以下组分：丙烯酸单体18％-22％，丙烯酸丁酯36％-40％，甲基丙烯酸甲酯16％-20％，十二烷基苯磺酸钠1％-5％，固化剂4％-6％，过硫酸铵2％-4％，余量为聚乙烯醇。

5.如权利要求1或4所述减反射冷裱膜，其特征在于，所述透明胶层按照质量百分比计，包括以下组分：丙烯酸单体20％；丙烯酸丁酯38％；甲基丙烯酸甲酯18％；十二烷基苯磺酸钠3％；固化剂5％；过硫酸铵3％，余量为聚乙烯醇。

6.如权利要求1所述减反射冷裱膜，其特征在于，所述丙烯酸单体为2-乙基(甲基丙烯酸酰氧甲基)膦酸酯、2-乙基(丙烯酰氧甲基)膦酸酯和2-乙基(甲基丙烯酸酰氧甲基)磷酸酯中的一种或几种。

7.如权利要求6所述减反射冷裱膜，其特征在于，所述丙烯酸单体为2-乙基(甲基丙烯酸酰氧甲基)磷酸酯。

8.如权利要求1所述减反射冷裱膜，其特征在于，所述固化剂为含NCO基团的固化剂，包括甲苯二异氰酸酯和/或二苯基甲烷二异氰酸酯。

9.如权利要求1-8任一项所述减反射冷裱膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)制备减反射膜层：在室温下将透明PET膜放卷后固定在电子束蒸发镀膜机的可移动式样品台上，采用氧化铪为靶材，将上述电子束蒸发镀膜机腔室抽至真空度为3×10^-4-5×10^-4Pa，先调整电子束入射角度为0°，在所述透明PET膜表面沉积致密氧化铪层；再调整电子束入射角度为85°，在所述致密氧化铪层表面沉积多孔氧化铪层，收卷即得；其中，所述可移动式样品台的转速为2-3rpm，沉积速率为0.40-0.45nm/s；

(2)制备透明胶：按照上述配比和组成称取所述透明胶层的原料，先在温度为100-120℃下将所述聚乙烯醇充分熔化，然后降温至75-85℃，加入除固化剂和过硫酸铵之外的各组分充分混合，再边搅拌边逐渐加入过硫酸铵反应10-12h，反应完成后加入固化剂搅拌均匀，冷却即得；

(3)制备减反射冷裱膜：将步骤(2)中所述透明胶经网线辊上胶后均匀涂布于步骤(1)中沉积有所述减反射膜层的透明PET膜层上，经烘干后与所述白硅纸层贴合，收卷，得减反射冷裱膜；具体工序为：放卷、上胶、烘干、贴合和收卷；其中，上胶量为所述透明胶干基18-25g/m²，涂布速度为25-35m/min。

10.如权利要求9所述减反射冷裱膜的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述上胶量为所述透明胶干基20g/m²，所述涂布速度为30m/min。