[发明专利]一种冷裱膜用减反射层及其制备方法

说明书

本发明公开了一种冷裱膜用减反射层及其制备方法，包括：在冷裱膜的透明PET膜层表面依次真空沉积至少一层致密无机氧化物层和至少一层多孔无机氧化物层，获得减反射层；由此制备的减反射冷裱膜可以防止眩光和降低图片或照片表面亮度，大大提高图片或照片质量和清晰度，增强用户体验和宣传效果；且上述制备工艺简单，操作方便，易于规模化生产。

技术领域

本发明属于材料技术领域，涉及功能性涂层制备领域，具体涉及一种冷裱膜用减反射层及其制备方法。

背景技术

冷裱是采用冷裱工艺在图片或照片上覆上一层冷裱膜，冷裱膜是带有粘性或磁性的塑封膜，用透明PVC经背胶加工制成，按膜面的纹理可分为光膜、哑膜和特殊纹理的保护膜，采用冷裱机等设备裱覆在写真打印的画面上，避免画面(打印面)被划伤、污染或淋湿，起到保护画面的作用，可用于婚纱摄影、海报招贴、户内展板广告、工程与园林效果图、广告演示图、商业与民用室内装潢、商业文件封面、数码影集、贺卡、图表、照片质量的宣传册、横幅、挂幅等。但是经冷裱膜处理后的上述材料在太阳光下容易出现眩光等，严重影响了图像质量和清晰度，从而影响到观众或用户体验和宣传效果。目前，现有技术中还没有具有减反射功能的冷裱膜相关研究和应用报道。

发明内容

本发明的发明人经过大量研究和实验后发现，通过真空沉积工艺，在冷裱膜表面沉积具有不同折射率的无机氧化物的致密层和多空层，改变入射光原有的反射过程，进而有效地降低光学系统中由于不同介质之间折射率差异引起的反射现象，增加光的透射率，获得良好的减反射效果；其中无机氧化物中氧化铪(HfO₂)、氧化硅(SiO₂)、氧化锆(ZrO₂)和氧化钛(TiO₂)等均能实现良好的减反射效果。本发明的目的在于提供一种冷裱膜用减反射层的制备方法，以及由上述制备方法获得的减反射层和具有减反射效果的冷裱膜。

本发明的上述目的通过以下技术方案实现：

一种冷裱膜用减反射层的制备方法，具体地，包括以下步骤：

(1)将冷裱膜在室温下固定于电子束蒸发镀膜机的样品台上，采用无机氧化物为靶材，将上述电子束蒸发镀膜机腔室抽至真空度为3×10^-4-5×10^-4Pa；其中，所述冷裱膜依次包括透明PET膜层、透明胶层和白硅纸层；

(2)调整上述电子束蒸发镀膜机的电子束入射角度为0°，在步骤(1)中所述冷裱膜的透明PET膜层表面沉积致密无机氧化物层，沉积厚度为130-140nm；

(3)调整上述电子束蒸发镀膜机的电子束入射角度为85°，在步骤(2)中所述致密无机氧化物层表面沉积多孔无机氧化物层；其中，所述样品台的转速为2-3rpm，沉积速率为0.40-0.45nm/s，沉积厚度为88-92nm，且所述多孔无机氧化物层的孔隙率为76％-80％；

(4)依次重复步骤(2)和步骤(3)0-2次，即得冷裱膜用减反射层。

进一步地，步骤(1)中，所述无机氧化物包括氧化铪、氧化硅、氧化锆和氧化钛中的一种。

进一步地，步骤(2)中，所述致密无机氧化物层的沉积厚度为133-137nm。

更进一步地，步骤(2)中，所述致密无机氧化物层的沉积厚度为135nm。

进一步地，步骤(3)中，所述多孔无机氧化物层的沉积厚度为89-91nm，且孔隙率为77％-79％。

更进一步地，步骤(3)中，所述多孔无机氧化物层的沉积厚度为90nm，且孔隙率为78％。

本发明的第二方面在于，由上述减反射层的制备方法制得的减反射涂层。

进一步地，所述减反射涂层包括至少一层致密无机氧化物层和至少一层多孔无机氧化物层。