[发明专利]一种冷裱膜用增透减反射涂层及其制备方法

说明书

本发明公开了一种冷裱膜用增透减反射涂层及其制备方法，将折射率大的纳米无机氧化物粒子制备成分散液，再涂覆于冷裱膜表面形成不同致密度的减反射纳米涂层和减反射纳米涂层，获得增透减反射涂层及增透减反射冷裱膜，用来提高图片或照片质量和清晰度，防止因为眩光导致用户体验不佳、宣传效果差，甚至出现交通事故等潜在危险的风险，且上述制备工艺简单，操作方便，易于规模化生产。

技术领域

本发明属于材料技术领域，涉及功能性涂层制备技术领域，具体涉及一种冷裱膜用增透减反射涂层及其制备方法。

背景技术

冷裱是采用冷裱工艺在图片或照片上覆上一层冷裱膜，冷裱膜是带有粘性或磁性的塑封膜，用透明PVC经背胶加工制成，按膜面的纹理可分为光膜、哑膜和特殊纹理的保护膜，采用冷裱机等设备裱覆在写真打印的画面上，避免画面(打印面)被划伤、污染或淋湿，起到保护画面的作用，可用于婚纱摄影、海报招贴、户内展板广告、工程与园林效果图、广告演示图、商业与民用室内装潢、商业文件封面、数码影集、贺卡、图表、照片质量的宣传册、横幅、挂幅等。但是经冷裱膜处理后的上述材料在太阳光下容易出现眩光等，严重影响了图像质量和清晰度，由于眩光导致用户体验不佳、宣传效果差，甚至出现交通事故等潜在危险。目前，现有技术中还没有具有减反射功能的冷裱膜相关研究和应用报道。

发明内容

本发明的发明人经过大量研究和实验后发现，通过引入折射率大的纳米无机氧化物粒子如氧化铪(HfO₂)、氧化硅(SiO₂)、氧化锆(ZrO₂)和氧化钛(TiO₂)制备成分散液，再涂覆于冷裱膜表面形成不同致密度的涂层，改变入射光原有的反射过程，有效地降低光学系统中由于不同介质之间折射率差异引起的反射现象，增加光的透射率，从而实现良好的减反射效果。本发明的目的在于提供一种冷裱膜用增透减反射涂层的制备方法，以及由上述制备方法获得的增透减反射涂层。

本发明的上述目的通过以下技术方案实现：

一种增透减反射涂层液，按照质量百分比计，包括以下组分：纳米无机氧化物分散液40％-50％，硅烷偶联剂1％-15％，有机溶剂45％-55％，其中，所述纳米无机氧化物分散液为纳米无机氧化物粒子固含量为45％-55％的水分散液。

进一步地，所述增透减反射涂层液按照质量百分比计，包括：纳米无机氧化物分散液45％，硅烷偶联剂5％，有机溶剂50％；其中，所述纳米无机氧化物分散液为纳米无机氧化物粒子固含量为50％的水分散液。

进一步地，所述纳米无机氧化物粒子包括纳米氧化铪、纳米氧化硅、纳米氧化锆和纳米氧化钛中的一种。

更进一步地，所述纳米无机氧化物粒子的平均粒径为100-300nm，优选150-250nm，更优选200nm。在本发明的一些优选的实施方式中，所述硅烷偶联剂可以为KH550或KH570，所述有机溶剂为乙醇或异丙醇。

本发明的第二方面在于，冷裱膜用增透减反射涂层包括上述增透减反射涂层液。

本发明的第三方面在于，上述冷裱膜用增透减反射涂层的制备方法，具体地，包括以下步骤：

(1)制备增透减反射涂层液：按照上述组成和配比称取原料，在常温下向所述有机溶剂中加入所述纳米无机氧化物分散液和硅烷偶联剂，形成反应液；再调节上述反应液的pH值为5.5-6，升温至40-45℃，反应时间为12-18h，得增透减反射涂层液；

(2)涂覆成膜：在冷裱膜主体层表面第一次涂覆步骤(1)中所述增透减反射涂层液，固化后形成高密度减反射纳米涂层；再在所述高密度减反射纳米涂层表面第二次涂覆步骤(1)中所述增透减反射涂层液，固化后形成低密度减反射纳米涂层；依次重复上述第一次涂覆和第二次涂覆工序0-2次，即为冷裱膜用增透减反射涂层；其中，